恒奥德真空镀膜机操作使用步骤
真空镀膜机主要类需要在较真空度下行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
简介
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜
使用步骤
电控柜操作
1. 开水泵、气源。
2. 开总电源。
3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再入下步操作。约需5分钟。
4. 开机械泵、预抽，开涡轮分子泵电源、并启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。
5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关预抽，开前泵和真空阀继续抽真空，抽真空到达定程度后才能开右边的真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能打开电子枪电源。
DEF-6B操作
1. 总电源。
2. 同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源:按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水继电器有故障，保护灯会常亮。
3. 开压，压会达到10KV以上，调节束可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电1.2A，偏转电在1~1.7之间摆动。
关机顺序
1. 关真空表头、关分子泵。
2. 待分子泵显示到50时，依次关阀、前、机械泵，这期间约需40分钟。
3. 到50以下时，再关维持泵。
