任何真空过程的效率在很大程度上取决于真空室中的真空稳定性。
比如在人造金刚石和碳纳米管生产中，为了保证纯净的金刚石具有所需的内部结构，稳定的真空水平对于高效的碳纳米管沉积至关重要。
但是，由于影响因素很多，控制任何系统的真空水平都是复杂的。当真空源本身不稳定且变化多端时，就会变得更加棘手。
1、控制真空水平的挑战
那么我们如何在稳定控制和快速反应的同时，控制密闭空间的真空水平呢?Alicat双阀压力控制器提供了这种保障。
在高压电气组件中，会出现电晕放电现象。在这种情况下，放电是由液体(如导体周围的空气)的电离作用引起的。
这会导致巨大的能量损失，给电路带来不必要的负载，而且还会产生臭氧、一氧化氮、二氧化氮，如果有水蒸气存在，还会导致硝酸的形成。这不仅对人体健康有害，还会破坏周围的电路。
解决这个问题的一个方法是灌封。灌封是用环氧树脂填充电子组件，以限制电晕放电，保护电路免受冲击和振动。
在某些环氧灌封工艺中，使用恒定的真空源来除去环氧树脂中的气泡。当环氧树脂周围的压力降低时，其内部的气体就会膨胀，终冒出气泡。
如果环氧树脂直接与真空泵连接，则会迅速沸腾，这是不可取的。如果压力不够低，气体就会被困在环氧树脂里面。
2、Alicat双阀压力控制器
在应用中，需要在封闭的空间中稳定和快速地控制压力，双阀压力控制器提供了一种理想的解决方案。
顾名思义，这些控制器有两个阀门，一个负责填充封闭空间，另一个负责疏散它，它们一起工作，提供了快速和稳定的控制。
下面是一个测试条件和示意图，更好地解释这一设置:
供应压力:大气压力
排气压力(可变真空源):0-2 PSIA
在歧管上保持真空:1 PSIA
歧管体积(保持在压力下的体积):2英尺^3
了解这些参数，Alicat能够使用我们的控制算法，为您的应用程序优化阀门。
当我们想要在封闭空间中获得压力控制时，这些参数使我们能够提供符合您的应用场景的设备:
供应压力,P1
排气压力,P2
闭合气容量的大小
预计流量速率/填充时间要求
在Alicat应用工程师的帮助下，为您的系统配置一个设备，以更准确和稳定的控制您的真空。
