等离子处理中哪种频率效果好？中频？射频？微波？
KHz，中频产生等离子体能量大，主要是物理作用；
MHz，射频产生等离子体能量和密度居中, 为物理和化学作用；
GHz，微波产生等离子体能量小，密度高，主要为化学作用；
40kHz、13.56MHz和2.45GHz等离子体激发频率运用：
激发频率为40kHz的等离子体即超声等离子体清洗是以物理反应为主的等离子体清洗，也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点在于本身不发生化学反应，清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响大，因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗。而超声等离子则应用于表面除胶、毛刺打磨等处理方面效果超好。典型的等离子体物理清洗工艺是在反应腔体中加入氩气作为辅助处理的等离子体清洗。氩气本身是惰性气体，等离子体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁。
激发频率为13.56MHz的微波等离子体是典型的等离子体化学清洗工艺，是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼，容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，从而去除表面的污染物。主要用于科研方面及实验室。
不同频率下电子密度对比图：
