COULOSCOPE MMS 测试仪器是一个功能非常强大而操作比较简便的仪器。使用时的一个原则是多看显示屏上的提示，根据它的提示一步一步地去做，这往往事半功倍；其二，要注意软键功能的变化，在不同的程序中有不同的功能；其三，许多功能都是由 MENU 菜单来开启，随后皆有提示，可按部就班的进行。
屏幕右上角显示当前时间，下面依次显示当前应用程式的信息：例如薄可测厚度 thmin＝0.30um，电解速度 Deplating rate 2.00um/min，修正系数 Corr.fact：1.00。 中间左半部分是当前应用程式的形象图解说明，右半部分显示测量数值。 下面一行显示当前应用程式的编号和名称，例如 Appl20：APPL.NO.20，数据总数 N_tot＝15。 右边为相应软键的功能，按 BLOCK RES.可以显示单个数据组的统计值；按 EVALUATE 可以查看单个或多个数据组的统计值以及 SPC 图、Σ图；用上下箭头可以翻看测量数据。
1．设立应用程式例如 0.5umCr/4umNi/10umCu/Fe：
MENU→在应用程式栏中选择新建应用程式（0）→挑一个空的序号，例如 5 即输入数字 5→ENTER
→用上下箭头选择镀层数 Select number of coatings，例如 3 coatings→确认→选择测量顶层镀层 Cr/Ni 的应用程式和电解速度（电解速度根据实际镀层厚度选择，一般电解时间控制在 1分钟左右），按 PAGE 软键可以翻页，依据本例选 16 即输入数字 16→确认→选择垫圈 gasket 的尺寸，例如ф1.5mm（yellow）→确认→选择测量中间层 Ni/Cu 的应用程式 43，输入数字 43→确认→选择垫圈 gasket 的尺寸，注意：同一个应用程式，只能用一种垫圈尺寸，所以还选ф1.5mm（yellow）→确认→选择测量里层镀层 Cu/Fe 的应用程式 33，输入数字 33→确认→选择垫圈gasket 的尺寸ф1.5mm（yellow）→确认，这时可以看到刚才建立应用程式的信息，请核对是否正确，按 ENTER 键可以跳到下一个项目，按数字 2，8 键可以切换当前选项→确认→这时可以更改应用程式的名称，按数字 2，4，6，8 键可以选择所需字符，按 ENTER CHAR 软键可以输入选定字符→CONFIRM，回到测量状态，应用程式已建立。
2．校准：CAL
CAL→修改系数（软键）→将标准片的标称值输入小框内→确认→按 START 键开始测量→确认→校准完成，返回测量状态。先把修正系数 Corr.factor 重置为 1.00。
3．应用程式：SELECT APPL
因为该仪器可测量各种镀层体系，故针对要测量的镀层，可使用 APPL.No.键来挑选当前要使用的应用程式。 SELECT APPL→选某个要用的应用程式的序号→ENTER→进入该应用程式的测量界面。
4. 修改应用程式：MODIFY APPL
测量时，如果仪器停不下来（漏液肯定停不了），可以修改突变电压。 只能在修改当前应用测试。 MEUN→在应用程式栏中选择修改应用程式（1）→NEW ΔU 软键→CHANGE 软键→输入密码159，并用 ENTER 键确认→用数字键输入新的突变电压值ΔU→用 ENTER 键确认，移动光标位置，修改下一层的突变电压值→修改完成后用 CONFIRM 软键确认，返回测量界面。
应用程式栏
0. 新建应用程式。
1．修改应用程式： MENU→1→ENTER
2．删除应用程式内的数据： MENU→2→ENTER 警告：所有的数据将被删除→DEL 软键执行删除，ESCAPE 取消操作→返回测量界面。
3.复制应用程式 ：MENU→3→出现已有的各个 APPL→选 APPL 的序号，例如“8” →8→ENTER→出现 New Application Number→输入一个空位，例如：20 →ENTER→在 20 的位置上将出现一个程序 8 的 COPY。
4．删除应用程式：
MENU→4→ENTER→选一个要删除的程式（例如程式 6，注意，无法删除当前应用程式）→6→DEL
（软键）→警告→DEL（该程式 6 已被删除）→回选择界面，可进行另一次的删除。如要返回测
量状态→MEAS OK。
