椭偏仪的适用样品范围很广，紫外至近红外波段透过半透过等材料都不在话下，也就是可以表征绝大部分的半导体和介电薄膜材料，甚至厚度在几十纳米以下的金属薄层也是囊中之物。
椭偏仪可以直接测量样品折射率和消光系数，也就是光的吸收强度；
在此基础上，我们可以鉴定样品的组分和带隙；
后通过与强大的软件分析相结合，样品信息如厚度、粗糙度、均匀度、孔隙率、电导率等，在椭偏仪面前一览无余。
SE-VM是一款高精度快速测量光谱椭偏仪。可实现科研/企业级高精度快速光谱椭偏测量，支持多角度，微光斑，可视化调平系统等高兼容性灵活配置，多功能模块定制化设计。
二、光谱椭偏仪产品特点
1.采用高性能进口复合光源，光谱覆盖可见到近红外范围 (380-1000nm)，可支持扩展紫外到近红外范围 (193-2500nm)
2. 高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置，实现Psi/Delta光谱数据高速采集；
3. 支持系列配置灵活，可根据不同应用场景支持多功能模块化定制；
4. 数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料；
广泛应用于镀膜工艺控制、tooling校正等测量应用,实现光学薄膜、纳米结构的光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析。
