微波管式炉的*设计能够实现在真空保护条件下对样品快速升降温，四面加热，温场更均匀，立式结构使得气体排放更加顺畅，炉体垂直安装在可移动支架上有利于炉管取放温度的均匀性，可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，特别适合薄膜生长、电极测试、氧化物晶体生长、快速退火等实验需要。
立式管式气氛炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
由于微波管式炉的种类是比较多的，并且每个对真空管式炉的真空系统要求都是不一样的，根据真空度而言，有低真空，中真空，高真空三个系统。下面来详细说一下这三个真空系统在微波管式炉中的实际应用。
1、低真空系统
真空管式炉的低真空系统适用于规划的真空管式炉，如预抽低真空井式炉，大多以油封式旋转机械泵为主泵。
2、中真空系统
中真空系统适用于真空度在规划的真空管式炉，中真空系统在真空管式炉的运用中是比较广泛的，一般由两级真空泵机组组成。初级泵多选用旋转机械泵或滑阀式机械泵，主泵为机械增压泵或油增压泵。
3、高真空系统
高真空系统一般由三级真空泵机组组成，主泵一般选用离子泵，初级泵大都也是选用旋转机械或滑阀式机械泵。
