半导体是电子产品的核心，信息产业的基石。半导体行业是国民经济支柱性行业之一，其发展程度是衡量一个国家科技发展水平的核心指标。近年来，为进一步鼓励国内半导体的整体发展，打破外国垄断，增强科技竞争力，政府投入大量资金在国内建造很多集成电路制造厂。 由于半导体行业的特殊性，芯片的制造、加工工艺非常复杂，在芯片生产工艺中需要使用大量特殊的高纯气体且气体毒性很强，这些气体参与芯片生产后，残余的少量气体经过净化装置处理后，通过固定污染源的方式排放至大气环境中，如何监测特殊污染物排放量并采取适当的控制措施是半导体行业面临的难点，现有的监测设备及分析手段无法用于半导体行业特殊污染物的检测工作。
乐氏科技自主研发生产的9100FIR和进口产品AtmosFIR两款傅里叶红外气体分析仪，能够很好地满足半导体行业排污监测需要。傅里叶红外气体分析仪采用全光谱分析技术，一台分析仪可以检测在红外光谱范围内具有红外吸收的全部气体组分，目前仪器开放的气体标准定量红外谱库*涵盖半导体行业特殊污染物因子，如NF3、SF6、CF4是半导体行业尤为关注的三种气体污染物，关于这三种气体的介绍如下：
NF3是一种强氧化剂，在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在芯片制造有大量运用；
SF6是一种理想的电子蚀刻剂，广泛应用于微电子、芯片制造技术领域；
CF4是微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，四氟甲烷高纯气和高纯氧的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻；
NF3、SF6、CF4是半导体行业使用最多的三种气体组分，由于用量很大，且为高纯气，除污染物的排放会涉及上述气体组分，气体的泄漏也会对人体和环境产生巨大影响和毒害。这些气体组分会强烈刺激眼睛、皮肤和呼吸道粘膜，腐蚀组织，浓度过高也会产生窒息的危险。因此在半导体行业针对上述气体的应急监测及固定污染源排放监测显得尤为重要。
