纳米压印系统是微纳结构制备的主要设备，需兼具热压印和紫外压印两种功能，而且可以快速的实现真空环境下的压印，可以处理各种不同形状、满足处理直径约10mm的模版和基片，实现大面积、性能稳定超表面光学元件生产，并在国际上优先探索并实现空间工程化应用,进而提高应卫星激光通信终端小型化、轻量化水平，大幅度降低激光通信终端光学系统的光学镜片及组件的尺寸，是今后激光通信终端的小型化和轻量化取得重大突破的关键技术之一。
纳米压印技术工艺：模板制造、压印过程(包括模板处理、加压、脱模过程)及图形转移过程。纳米压印精度和模板的精度直接相关；光刻胶材料影响着热压温度和曝光时间；压印过程中模板与压印材料之间的对准、平行度、压力均匀性、温度均匀性、脱模技术等都会影响最终的产品质量。在压印后精细结构检测方面，一般需要检测的项目包括：线宽、深度、缺陷、膜厚、粗糙度、翘曲度等，主要用到AFM、SEM、台阶仪、轮廓仪等设备。
纳米压印较传统光刻技术可在采用较低成本的条件下大批量制备具有超高精度的图形，同时也具有良好的均匀性和可重复性，此外可以传统光刻工艺有很大程度的兼容性。纳米压印除了在集成电路领域有着非常广阔的应用前景，同时在光学领域纳米压印可用来制备周期小于光学波长的亚波长光栅。
