shinkuu真空蒸镀设备的特点
真空蒸发系统是在真空气氛中使材料蒸发、蒸发，在样品上形成薄膜的装置。
通常使用涡轮分子泵在高真空下沉积薄膜，并且可以制造没有杂质的薄膜。
真空设备用蒸镀设备可以通过顺序程序控制操作轻松创建高真空环境，具有紧凑且价格低廉的产品阵容，非常适合研究和开发。从大气压到 10x10 -4 Pa 区域的到达时间约为 5 分钟。我们将通过转换传统的旧系统来加快研发速度。
我们提供具有紧凑型 TMP + RP 排气系统且价格低廉的清洁高真空气相沉积系统。
取消复杂的排气操作，仅通过触摸面板开关的 ON/OFF 实现全自动控制。
通过结合小型涡轮分子泵（RP 放置在外部）实现紧凑的尺寸。它在桌子上的小空间里工作得很好。
金、铝、铬、银等可以通过使用钨篮进行气相沉积。碳沉积使用使用特殊碳 ( SLC-30 ) 进行沉积的夹式沉积枪类型。
该机型专门用于电镜样品的预处理和金、铝、铬等薄膜的制备。
VE-2030 有多种附件（选项）。我们可以根据您的研究目的灵活应对定制。内置涡轮分子泵和旋转泵。
我们提供广泛的服务，包括钨篮气相沉积、钼舟、K 电池加热、EB 枪和碳棒气相沉积。
