二氧化硅分析仪(Silicon Dioxide Analyzer)是一种常用于工业生产中分析固体或液体样品中二氧化硅含量的仪器。其原理是利用高温燃烧后样品中的二氧化硅与循环空气中的钠碱金属生成草酸盐,再被酞菁钴吸收发射光谱分析得到。通常被广泛应用于玻璃、陶瓷、建材、电子、冶金、石油等多个领域。其有许多优点,如高度自动化、分析速度快、精度高、重复性好等。由于二氧化硅是一种非常重要的工业原料,因此该仪器在工业生产线上具有不可替代的作用。通常由五个部分组成:样品处理单元、加热单元、燃烧单元、草酸盐生成装置和检测单元。其主要原理如下:
样品处理单元:将待分析的固态或液态样品加工成适合分析的形式加入到分析系统中;
加热单元:将样品等加热至高温状态,这有助于分析过程中二氧化硅的分解反应,同时使物料挥失不需要的水分和杂质;
燃烧单元:将加工好的样品进行燃烧,使较高浓度的二氧化硅被气态化并进入草酸盐生成装置;
草酸盐生成装置:将气态的二氧化硅与循环空气中的钠碱金属反应生成草酸盐,从而实现对二氧化硅的有效吸收;
检测单元:通过吸收草酸盐反应产生的特定光谱发射信号,并据以计算出样品中二氧化硅的含量。
值得注意的是,该仪器使用时需要严格控制仪器中的氧气浓度和反应温度等参数,以确保测试数据的准确性。同时,为避免干扰因素的影响,还需在运行过程中经常清洗分析系统和更换化学试剂等。
二氧化硅分析仪的操作使用可以按照以下步骤进行:
1.根据要测量的样品类型和测试要求,选取合适的样品,并按照说明书操作将其制样并储存。
2.接通电源后,在主机上打开电源开关,待屏幕亮起并进入测试状态时即可进行下一步操作。
3.将制好的样品放入试样池内,并根据说明书设置测试参数,如温度范围、时间等参数。在配置好所有参数之后,单击“开始”按钮开始测试过程。
4.测试完成后,将获得二氧化硅含量的数据,并且显示在屏幕上,可保存该数据以供参考和分析。
5.测试过程结束后,需要对设备进行清洁工作,以便下次使用,清洗步骤需要谨慎按照设备说明书的要求进行。