ULCoat系列可以在处理过的表面上沉积薄膜
通过在放电后向等离子体中注入前驱体，ULCoat系列可以在处理过的表面上沉积薄膜。
ULCoat是一款可将前驱体汽化并注入等离子体中，后由喷嘴完成薄膜沉积的系统。ULCoat系列需要与ULS OMEGA系列配合使用。
ULCoat系列的标准版本是为了允许使用有机金属作为前驱体进行氧化硅（SiOx）的沉积而设计的。当然，我们也可以根据要求开发其他薄膜成分。
您可以与我们的研发实验室合作，在研发合同的框架下，定制您的专属解决方案。
ULCoat系列技术特点
– 与ULS OMEGA系列搭配使用
– 薄膜沉积
– 沉积厚度范围从50至1000纳米
– 沉积薄膜厚度均匀（+/- 2%）
– 中高处理速度可达200nm.cm²/s
– 专为氧化硅(SiOx)的沉积进行优化
喷嘴
在注入等离子体之前，液态前驱体的流速是可以控制的。该模块由几个部分组成。
– 前驱体储存罐
– 前驱体流量控制单元
– 气体流量控制单元
– 加热器模块（可选）
直观的数字触控屏
– 内置触摸屏（OEM版本除外）
– 直观的控制方式
– 多语言界面
– 故障检测和诊断
– 实时显示指令
适用气体
– 空气
– 氮气
– 其他混合气体
ULCoat系列的优势
– 工作温度低
– 沉积薄膜厚度均匀（+/- 2%）
– 可以研究其他类型的沉积
– OpenFlow版本可用于开发新的沉积工艺
