光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。
光刻机是一种利用光学原理进行微细加工的设备。其原理是利用光学透镜将光线聚焦到光刻胶表面，通过光刻胶的光化学反应来形成微细的图形。光刻机的核心部件是光刻胶，光刻胶是一种特殊的聚合物材料，其特点是在光的照射下会发生化学反应，从而形成微细的图形。
该光刻机可广泛用于MEMS和光电子，例如LED生产。它经过特殊设计，方便处理各种非标准基片、例如混合、高频元件和易碎的**族材料，包括砷化镓和磷化铟。而且该设备可通过选配升级套件，实现紫外纳米压印光刻。它具有以下特点：高分辨率掩模对准光刻，特征尺寸优于0.5微米、装配SUSS的单视场显微镜或分视场显微镜，实现快速准确对准、针对厚胶工艺进行优化的高分辨光学系统、可选配通用光学器件，在不同波长间进行快速切换等。
光刻机在芯片制造中的应用广泛。在芯片制造的过程中，需要将电路图案转移到硅片上，这就需要利用光刻机进行微细加工。光刻机可以将电路图案转移到硅片上，从而形成微细的电路结构。光刻机的分辨率越高，制造出来的芯片就越精细，性能也越好。
