TMAH，全称为四甲基氨基氢氧化物（Tetramethylammonium hydroxide），是一种常见的有机胺盐碱性化合物，广泛应用于半导体、光学、化学等领域中。
TMAH是一种具有强碱性的清洗剂，它可以有效地去除半导体晶圆表面的杂质和残留物，保证晶圆表面的干净和光滑。此外，TMAH在氧化清洗过程中也能起到很好的作用。
TMAH也常用作显影剂，通常应用于半导体加工工艺中。在光刻过程中，光刻胶的部分区域被曝光，显影剂能够将未曝光的光刻胶部分移除，形成所需的图案。TMAH具有较高的显影速率，能够提高显影效率和加工效率
TMAH在电化学领域中也有应用。由于它具有较高的离子导电率和良好的稳定性，可以用作电解液。在某些电化学应用中，TMAH可以与金属离子形成稳定的络合物，提高电极反应的效率。
作为分析试剂，TMAH在分析化学领域中也有应用。由于它具有良好的溶解性和稳定性，可以作为分析试剂使用。在某些分析应用中，TMAH可以用于提取和分离目标化合物，提高分析的精度和灵敏度。
因此检测THAM四甲基氢氧化铵浓度就成为必要手段。KRK笠原理化LQ-5Z-Multi，可以现场检测四甲基氢氧化铵。
一个单位测量8个项目（硫酸、硝酸、盐酸、TMAH、烧碱、碳酸碱、氨水、水温）
单组分液体浓度可在%和g/L单位之间切换
耐酸碱的耐化学腐蚀传感器
自动温度补偿电极和仪器
任意量程校准功能
IP66 级防水结构
| 名字 | 用于单组分测量的多项目化学浓度计 |
| 型 | LQ-5Z-多功能 |
| 测量范围 | 碱性溶液 TMAH：0.00~5.00%/0.0~50.0g/L 氢氧化钠：0.00~3.00%/0.0~30.0g/L 碳酸钠：0.0~10.0%/0~100g/L 氨水：0.00~2.00%/0.0~20.0g/L 酸溶液 硫酸：0.00~2.00%/0.0~20.0g/L 硝酸：0.00~2.00%/0.0~20.0g/L 盐酸：0.00~2.00%/0.0~20.0g/L 温度：0.00~40.00°C |
| 样品液体温度 | 0.0~40.0°摄氏度 |
| 测量方法 | 电极法（水样测量） |
| 校准 | 零跨度校准功能 |
| 温度补偿 | 自动温度补偿 |
| 结构 | IP66防水结构 |
| 权力 | 具有 自动断电功能的碱性电池（LR03×3） |
| 测量电极 | 4C型，1m电缆标准 |
| 外形尺寸 | 仪身：38（H）×75（W）×180（D）mm 电极：φ17×180（L）mm |
| 重量 | 仪器：约300g，电极：约50g |
| 标准配置 | 仪器、电极、电池、使用说明书、保修卡 |
