前沿的实验室科学研究仪器和设备，不仅有助于加快科学研究的进程，也为未来的学术成果和企业的技术创新奠定了基础。一起来看看 2024 年必投资的 6 大科学研究仪器，你错过了哪些？
1.扫描电镜 — 优秀的表征工具
Phenom 飞纳台式扫描电镜
在当今科学研究和工业应用中，扫描电子显微镜与能谱仪已成为材料实验室的表征工具。荷兰飞纳台式扫描电镜（Phenom）以其前沿技术和用户友好的设计，被 1500+ 用户认可，成为科研和工业研发高效、精确材料微观表征与分析的首（shou）选。
2024 年，为您的材料实验室增购飞纳台式扫描电镜，揭开材料微观世界的奥秘，加速科学发现和技术创新的步伐。
为什么选择飞纳台式扫描电镜？
1）小巧的体积
相比于传统的大型扫描电镜，荷兰飞纳台式扫描电镜的显著特点是其紧凑的设计。这意味着它不仅占用空间小，而且安装和部署的灵活性大大增加，即便是在空间有限的实验室环境中也能轻松安置。
2）高效的性能
尽管体积小巧，荷兰飞纳台式扫描电镜却能提供与大型扫描电镜相媲美的高分辨率成像能力（优于1.5nm）。此外，其快速成像（30 秒内完成）和快速抽真空（15 秒完成）的特性，使得样品的观察和分析过程更加高效。
3）电镜能谱一体机
能谱软硬件全集成，使得能谱分析工作更为简单、直接、高效。
4）易用的操作
飞纳电镜通过自动化，大幅简化了操作流程，即便是非专业人员也能在短时间内掌握使用方法，大幅降低了用户的学习成本和操作难度。
荷兰飞纳台式扫描电镜——清华大学、北京大学、复旦大学、上海交通大学、中科院等顶尖高校科研单位，以及宁德时代、比亚迪、巴斯夫、微软、罗氏、默克等企业的共同选择。
2.台式显微 CT——人无我有，抢占先机
NEOSCAN 台式显微 CT
NEOSCAN 台式显微 CT，通过精细的机械系统及创新的图像重建算法，在台式机的体积下实现了 2μm 的高空间分辨率。台式显微 CT 不仅实现了对样品的无损检测，更以其作为一种相对较新的表征手段在科研和工业界中独树一帜。这种新颖性本身就是其显著的优势之一，为那些寻求突破传统研究方法限制的科学家和工程师们开辟了新的视野。
2024 年，为您的材料实验室增购 NEOSCAN 台式显微 CT，意味着获得了"人无我有"的技术优势，助您在科学研究和技术创新的竞赛中占据先机，迎来更多的创新和突破。
新颖性带来的优势
1）填补技术空白
在许多研究领域，传统的表征手段或许难以提供足够的信息或可能对样品造成破坏。NEOSCAN 台式显微 CT 的无损和三维成像能力，提供了一种全新的解决方案，使得研究人员能够探索材料的内部世界，提升研究成果的影响力和可见度。
2）推动创新研究
作为一种新兴的表征技术，NEOSCAN 台式显微 CT 为科学研究和产品开发提供了新的可能性。它鼓励科学家和工程师跳出传统思维的框架，探索和实验新的研究方法与应用途径。
3）多维度参数分析
通过对 CT 图像数据的深入分析，研究人员可以从中提取出样品的多种物理和几何参数，如体积、表面积、孔隙率、纤维取向等。这种多维度的定量信息对于理解材料的性能和行为具有重要意义。
4）应用领域的拓展
随着科研和工业界对 NEOSCAN 台式显微 CT 技术认识的不断深入，其应用领域正迅速扩展。从对高性能材料的内部结构分析，到在医学领域对骨组织的细致观察，再到考古学中珍贵文物的无损检测，NEOSCAN 台式显微 CT 都展现出了其独到的价值和潜力。
NEOSCAN 台式显微 CT 作为一种比较新的表征手段，不仅因其无损检测能力而受到重视，更因其新颖性和应用价值而成为科研和工业界的宝贵资产。
3. 原位实验样品杆——开启原位纳米/原子级分析新时代
DENSsolutions TEM 原位样品杆
传统透射电子显微镜 (TEM) 主要用于成像材料结构，近年来球差等先进技术使其达到原子分辨率。然而，它们无法模拟真实环境（加热、气体、液体等），限制了应用价值。DENSsolutions 的原位透射电镜技术突破了这一瓶颈！利用微机电系统 (MEMS) 技术，在 TEM 内实时模拟真实应用环境，将电镜从静态成像工具变身为多功能实验室。
DENSsolutions，助力您引（yin）领纳米科技前沿！
In-situ TEM原位透射电镜优势
1）真实环境
模拟冷冻、加热、加电、气体、液体等，观察材料在真实条件下的行为。
2）多功能分析
不仅成像，还能测量性能、评估表现、优化工艺。
3）一站式平台
集成所有研发阶段，解锁研究能力。
应用领域:
电池研究：观察电池材料在工作条件下的变化，开发新型电池。
催化研究：实时监测催化剂活性位，设计高效催化剂。
材料科学：探索材料在真实环境下的微观行为，研发新型材料。
4.SEM/TEM 样品制备——扫描电镜/透射电镜制样必（bi）备
Technoorg Linda 离子束技术
Technoorg Linda 提供专业的样品制备解决方案。 产品通过超高能氩离子枪和低能氩离子枪，对样品进行无损研磨，精细加工以及最终精修。具体包括SEM样品制备（SEMPrep2），FIB样品精修（Gentle Mill），TEM 样品制备（Unimill）等产品。这些产品与所有品牌的电子显微镜兼容，涵盖从机械样品制备到离子研磨和最终精修的整个减薄过程。适用于材料科学、生物研究、地质学、半导体和光学等多个领域。
SEMPrep2 氩离子研磨仪 —— 扫描电镜样品的高质量表面精密处理设备
Gentle Mill 离子精修仪 —— 用于制备高质量 TEM/FIB 样品的离子束工作站
Unimill 离子减薄仪 —— 用于 TEM/XTEM 样品制备的全自动离子束减薄系统
5.原子层沉积包覆——PALD
Forge Nano 粉末原子层沉积包覆
Forge Nano 粉末包覆技术是一种基于原子层沉积（ALD）的表面涂层技术。它可在纳米尺度上实现对粉末颗粒的均匀和精确涂层包覆，提高材料的性能和稳定性。Forge Nano 的粉末包覆技术在催化剂、电池材料、陶瓷材料等领域具有广泛的应用，为这些领域的研究和工业生产提供了先进的涂层解决方案。
6.纳米颗粒制备——纳米气溶胶沉积系统
VSParticle 纳米颗粒制备&印刷沉积系统
VSParticle 火花烧蚀纳米气溶胶沉积系统可用于 MEMS 制造气体传感器气敏涂层，电催化剂涂层的制备，是为数不多可以在常压状态下制备 20nm 以下纳米粒子的气相沉积方法。目前已在浙江大学，东南大学，北京工业大学，中科院物理所，中南大学，广东工业大学等学术机构以及企业装机。火花烧蚀沉积技术已被众多学者证明，在 Nature，Matter, Advanced Functional Materials 等高水平期刊发表相关文章，是新型纳米制造的利器。
