近日，国务院印发了《推动大规模设备更新和消费品依旧换新行动方案》，要求“到2027年，工业、农业、建筑、交通、教育、文旅、医疗等领域设备投资规模较2023年增长25%以上”。在设备实施更新行动中，更明确指出：推动符合条件的高校、职业院校（含技工院校）更新置换先进教学及科研技术设备，提升教学科研水平。
Quantum Design中国积极响应政策要求，提供世界范围内全新优质设备以及全面升级的技术解决方案，助力本次更新行动更加顺畅、高效的进行！
主要用于电学、磁学、微波、THz、光学等多种测量，可以根据客户需要，选择不同的温度和磁场配置。
M81-SSM（同步源和测量）系统消除了多种特定功能仪器安装的复杂性，一台仪表可提供源、测量和锁相功能，可进行各种高精度的电学测量功能。
采用全新的FastHall测量专丶利技术，在测量过程中无需翻转磁场，尤其是在使用强磁场超导磁体或测量极低迁移率材料时，可以实现更快、更精确的测量。
通过不同测试选件，可以选择15 K至1273 K温度环境，测量0.5 µΩ~200 GΩ的电阻，确定载流子浓度和载流子迁移率与温度的关系等。
可进行电学和各种磁学测量，测量快速方便，磁测量精度维持10-8emu顶尖水平。
提供9、12、14T多种型号超导磁体，无缝衔接50mK稀释制冷机，提供电学、磁学、热学多种测量方案。
低温强磁场，兼顾VSM、各向异性磁阻测试，铁磁共振测试等。
极低温强磁场Raman扫描成像；0.12 nm极低震动；1.65K-300K，9T-12T&矢量磁场。
无液氦超低震动（0.12 nm）；温度和磁场：1.65K-300 K，9T,12T,矢量磁场；兼容MFM/CFM/RAMAN/NV色心等模式测量。
0.12 nm极低震动；1.65K-300K，9T-12T&矢量磁场，配备各种低温消色差物镜，NA大于0.8。
20-50 nm空间分辨率；无液氦超低震动（0.12 nm）；温度和磁场：1.65K-300 K，9T,12T,矢量磁场。
无液氦低温10K AFM/qPlusAFM系统；全温区实现原子级分辨图像；与UFO腔体/MBE/PLD/LEED/APERS真空互联。
极低温强磁场下的NV色心测量；无液氦超低震动；温度和磁场：1.65K-300 K，9T,12T,矢量磁场；集成低温物镜。
10K全自动干式高真空低温恒温器；10 nm空间分辨 s-SNOM和nano-FTIR；兼容红外到THz波段光源。
兼具7T磁场、1.7K低温、超低震动、自由光路、近工作距离，可进行MOKE、RMCD、Raman、PL等光谱测量。
Janis提供多种多样的低温恒温器，最丶低温度至1.5K，大范围的样品温度能适用于大部分的科研实验。根据不同需求，可以选择样品处于真空环境或交换气体环境中。
5 nm超低震动，10 mK温度稳定性，自由光路，大数值孔径，电学通道，配置灵活。
XAFS和XES两种测量模式；常规实验室环境使用, 无需同步辐射光源; 集成各种原位反应池。
用于晶体定向测试，操作简单，测试快速，配备六轴样品台。
单角度一次入射，快速、准确获得残余应力。
热电材料性能评价的经典设备。
最大温差500℃，测试热电器件的转换效率/发电量。
适用于小模块热电器件的测量，可测单一样品。
全新一代的8600系列VSM，具有超高的灵敏度和超快的采集速度，可以满足各类磁学测量。产品设计方面也进行了升级，软件功能更强大，设备操作更简单。
10-12emu灵敏度，单条回线1s内可以获得，适合微区磁滞回线和磁畴观测。
大圆晶样品非接触无损测量；载流子迁移率, 散射时间, 浓度分析；电导率和电阻率分析。
集成多种AFM、SEM和EDS功能，实现材料二维和三维的形貌、成分分析、力学性能、电学性能，磁学性能表征。
5kV加速电压，多种成像模式；高亮度、高对比度、体积小巧；操作简单，维护成本极低。
10-25kV加速电压，多种成像模式，配有EDS；高亮度、高对比度、分辨率高；操作简单，维护成本极低。
小巧易用，三次鼠标点击可得到纳米级形貌，性价比高，满足各类样品纳米尺度快速表征的需要。
500 nm分辨红外和拉曼显微成像；无损反射式测量+透射测量；红外+拉曼同步测量。
超高空间分辨和时间分辨同时实现探测；空间分辨率20-50 nm，Pump光源时间分辨可达50 fs。
10 nm空间分辨率近场光学成像与光谱测量；特殊高阶解调背景压缩技术，兼容可见光、红外、超快和太赫兹。
实现纳米级THz成像和光谱学测量；兼容宽带和单频THz信号 ；复杂材料中的电学测量。
10 nm空间分辨率的纳米傅里叶变换红外光谱；灵敏度高，适应于有机、生物、化学等材料高精度鉴别。
一套设备、一束激光实现三种超快光谱探测：瞬态吸收光谱TAS、相干拉曼光谱ISRS、多维相干光谱MDCS。
无需掩膜板，结构小巧紧凑；高分辨率（0.4 μm）；适应于MEMS、微流控、芯片等纳米结构制备。
温度梯度优化方案，温度反馈控制，最高温度3000°C。
最高温度3000°C，最高压力300bar，可生长多种单晶样品。
高效镀金椭球反射镜，占地面积小，操作简单。
多片基片/批量粉末制备；温度条件精确控制；小巧机身设计：75x56x28 cm。
金属有机物热蒸发、磁控溅射、共溅射、反应溅射、配置灵活、功能齐全、智能控制。
可快速制备石墨烯的小型CVD系统，最快30分钟即可完成整个过程，完备的智能、安全性设计。
超高精准刻蚀，可逐层刻蚀石墨烯，可制造面内缺陷，可对清洗石墨基材表面。
通过离子束工艺来调控薄膜和异质结构，可用于半导体工艺，以及MRAM、斯格明子，磁性隧道结等多种磁性研究。
500 nm分辨红外和拉曼显微成像；无损反射式测量+透射测量；红外+拉曼同步测量。
XAFS和XES两种测量模式；常规实验室环境使用, 无需同步辐射光源; 集成各种原位反应池。
高分辨率（0.32Hz）、高灵敏度（30:1）无液氦核磁，采用特殊先进的信号探测技术，可实现1H/13C/19F/23Na/29Si/31P/11B/7Li/119Sn等杂核探测。
原位即时空间分辨光谱（Operando Spectroscopy）对催化反应动力学监测，可视化测量物质在反应器不同位置的实时状态。
10 nm空间分辨率的纳米傅里叶变换红外光谱；灵敏度极丶高，适应于有机、生物、化学等材料高精度鉴别。
