半导体产能不断扩张，配套设备需求提升加速
随着电子信息产业的迅速发展，中国半导体行业市场规模也从2017年的1315亿美元增长至2022年的1820亿美元。基于半导体产业国产化进程不断加快，下游晶圆厂也在不断扩张，中国芯片制造商预计2024 年将新开18座晶圆厂，产能将从760万片推升至860 万片。在半导体国产化趋势下，国内晶圆厂的扩张也有望带动半导体配套设备的国产替代需求，将随着晶圆工厂的扩产持续增加。
颗粒污染影响产品品质，半导体制造洁净度要求高
根据国际半导体设备制造商协会 (SEMI) 最近发布的世界晶圆厂预测 ，超过50%的半导体产量损失可归因于微污染。为了最大限度地减少良率损失，半导体制造厂必须在洁净室中采用严格的污染控制策略。半导体制造工艺复杂，如何提高产品的成品率对于半导体企业在竞争中保持优势至关重要。影响半导体成品率的因素有很多，其中生产过程中的空气杂质（尘埃颗粒）是不可忽视的因素。由于高密度的集成电路的图形特征尺寸和表面沉积层的厚度都已经降到微米级别，更容易受到微粒的影响，这种微粒附着在半导体表面可能会形成致命的缺陷，导致器件失效。
LSI各制造工序与洁净室的清洁条件
四方光电尘埃粒子计数器，让洁净室微尘无所遁形
四方光电在线粒子计数器OPC-6510DS采用光学散射原理，可精确检测并计算单位体积内空气中不同粒径的悬浮颗粒物的个数，具有28.3L/min大流量的气体采样速率，可同时输出0.3um、0.5μm、1.0μm、5.0um、10um五个通道的颗粒数(默认单位pcs/28.3L)，广泛应用于百级、千级、万级、十万级等洁净室环境。
l 采用3.5寸触摸屏，实时显示各粒径数量、等级以及报警信息等
l 内置四方光电的尘源智能识别模块，高效粒子识别率，检测精度高
l 内置超声波流量传感器，实现28.3L恒流采样，数据长期稳定性高
l 低噪音涡轮风机采样，连续监测稳定性好，寿命长
l 满足IS014644-1:2015、新版GMP、JF1190-2008、GB/T6167-2007标准
| 满足IS014644-1:2015、新版GMP、JF1190-2008、GB/T6167-2007标准
未来四方光电将继续深耕光散射技术，不断创新，为客户提供定制化的洁净室解决方案，帮助客户提高产品质量。
