日本uv-asumi准分子辐照装置介绍
准分子灯利用充满稀有气体的灯内产生的放电等离子体产生的光（准分子光）。
主要波长为126nm（Ar 2 *）、146nm（Kr 2 *）、172nm（Xe 2 *）、222nm（KrCl *）和308nm（XeCl * ）。
我们使用Hamamatsu Photonics Co., Ltd.生产的Xe 2主波长为172 nm的灯单元，并提供表面改性和亲水处理（改善润湿性）的设备。
通过使用平板灯，可以实现大面积的均匀照射。
采用RF（射频），输出稳定，闪烁少
172nm 的单一波长可实现更高效的准分子辐照加工。
可以立即打开和关闭
与电晕放电和等离子方法直接对工件进行放电不同，准分子照射仅照射真空紫外线，因此对工件几乎不会造成损坏。
与因电极溅射而产生灰尘的电晕放电法和等离子法不同，可以进行清洁加工。
准分子照射使用平板灯发出的光，因此不存在加工不均匀的情况。
光的波长越短，它的能量就越高。使用氙 (Xe) 的准分子灯具有 172nm 的主波长和 698kJ/mol (7.23eV) 的高能量。利用这种高能量，它可用于特氟龙等难以使用低压汞灯对其表面进行改性的材料。
该装置集成了主波长为172nm的准分子照射装置、扫描台和臭氧分解装置，仅使用100V电源即可轻松安全地进行准分子表面改性实验。
扫描阶段允许处理比以前更大的区域。集成臭氧分解装置，无需排气设备等。
这是照射宽度为400mm的准分子照射单元的扫描型照射装置。
最大工作尺寸为 400 x 800 毫米。
