真空管是在高真空环境下使用的特殊管材。
真空应用需要在管内几乎没有气体或抽空的情况下运行。这使得消除气体的影响并实现各种先进的科学研究和工业应用成为可能。
真空管是半导体行业的重要元件。半导体制造工艺需要高真空环境，真空管用于蚀刻、气相沉积等工艺。这使得制造高精度半导体器件成为可能。
由于外层空间是真空，压力极低，因此真空管被用于太空探索设备和人造卫星。这些设备需要在高真空条件下具有可靠性和耐用性，而真空管支持可靠的运行。
在科学研究和工业领域，有时需要进行精密的测量和评估。真空管通过消除气体的影响，适合在精密测量和测试设备中进行高精度测量。
真空管还可用于冷冻和冷却过程。在真空环境下，减少热传导，提高材料和样品的冷却效果。通过使用真空管，可以实现更有效的冷却。
质谱仪是用于研究物质成分和组成的重要仪器。真空管用于将样品保持在真空下，以便进行高精度的质谱分析。
激光设备在真空条件下进行光放大和受激发射。真空管有助于激光系统中的光传播，有助于提高激光性能。
对于真空管来说，消除内部气体以创造高真空环境非常重要。真空管内通常有一个特殊的泵，用于吸出气体并产生真空。由于排除气体，真空管内的压力变得极低，形成真空。
真空管必须极其气密，因此防止泄漏非常重要。整个结构，包括管接头和填料，必须是气密的。当发生泄漏时，很难保持真空并妨碍设备正常运行。
真空管具有在高真空环境下热传导减弱的特性。在常压下，热量通过空气传递，但在高真空条件下，气体较少，因此热量传递受到抑制。
这会改变真空管内物体或样品的热特性，从而实现有效的热控制。
一些真空管利用加热和蒸发原理工作。安装在内部的加热器加热样品或材料，从而产生气体或蒸汽。
此过程可以控制真空管内的压力和组件。
一些实验和过程需要将特定气体引入真空管。为此目的使用受控气体引入装置。
通过引入精确量的特定气体，可以观察样品的反应和行为并推进研究和制造工艺。
喷射管是一种利用高速气流产生真空的管子。内部有一个喷嘴，通过高速喷出压缩空气或蒸汽，吸入周围的气体，形成真空。
它结构简单，无需电力即可运行，可产生节能真空。主要用于排气设备和气泵。
扩散泵是一种利用分子扩散来排出气体的管子。内部有加热器和冷却器，气体分子相互碰撞并从壁上吸附和解吸，从而消除气体。
用于高真空区域，适合达到高真空度。该类型主要用于半导体制造和真空电镀。
涡轮分子泵是一种利用高速旋转的涡轮分子排出气体的管子。通过涡轮分子的旋转排除分子，形成高真空区域。
它用于高级实验和加工，因为它可以达到非常高的真空度。它是一种特别在半导体制造和航空航天工业中发挥着重要作用的产品。
离子泵是一种利用电场排出电离气体的管子。内部有电极，电场将电离气体从管中拉出。
不仅能达到很高的真空度，还能有效去除稀有气体和水蒸气。主要用于真空冰箱和电子显微镜。
