样品抛光机是用于制作光学显微镜样品、电子显微镜样品以及强度试件的加工机械，用于实验室、实验室、质量控制部门等进行测试、检验和分析。
为了进行各种目的的抛光，有多种类型的抛光板、抛光片、抛光轮（布等）、抛光剂和夹具。许多设备相对较小，可以安装在桌面上，并且有易于操作的手动机器，根据目的和用途有多种类型和产品，例如类型和夹具类型。
样品抛光机用于执行以下抛光过程。
此工艺使工件表面呈现镜面状。主要用于利用光学显微镜和电子显微镜进行表面观察试样的制备。
该过程包括减薄工件并将其抛光至所需的厚度。主要用于岩石、矿物、土壤、陶器、骨骼等的制备，以及TEM样品和EPMA样品在前处理过程中的细化。
这是一种抛光工艺，以获得表面平整度，这是加工的标准，以及必要的尺寸、平行度和平面度。主要用于制备强度试验和拉伸试验的样品。
这是一种抛光工艺，以获得所需的表面粗糙度。主要用于制备强度试验和摩擦磨损试验的样品。
通过物理动作进行抛光。
自由磨料加工法
将磨粒直接施加到平台或抛光轮上进行抛光的方法。 磨料（磨粒）的把持力较弱，抛光剂（磨粒）一边滚动（滚动）一边作用于抛光表面，产生抛光效果。 与固定磨粒相比，对工件造成的损伤较小，适合最终抛光。 由于磨粒因破碎而变小，并且随着磨粒从加工表面流出并变小，抛光效率降低，因此需要定期供给磨粒。 主要用于研磨和抛光（抛光）。
固定磨料加工法
是指用结合剂等固定磨粒进行抛光的方法。 具有较强的保留磨料（磨粒）的能力，适合高效抛光。 与使用游离磨粒的抛光方法相比，该方法对工件造成更大的损伤，并且由于磨粒磨损（破碎）和堵塞而导致磨削功率下降。 需要定期更换抛光片并磨利抛光盘。 主要用于粗抛光。
将工件浸入化学品中以溶解并抛光表面。主要用于去除机械抛光造成的损伤层，制备金相样品。
化学机械抛光（英文：Chemical Mechanical Polishing）是涉及化学作用的机械抛光（物理抛光）的总称，是通过物理和化学作用使工件表面平整、光滑的抛光技术。它用作基材的最终抛光方法，目的是去除受损层并使表面光滑。
这是一种将工件浸入电解液中，通以电流，使工件表面熔化，获得抛光效果的方法。仅适用于某些金属，例如不锈钢和铝。
这是一种简单而紧凑的样品抛光机，可以用手夹持和抛光工件。用于粗抛光至精抛光，根据加工目的需要技巧。 主要采用机械抛光。
根据抛光的目的，可以使用样品架和导臂等夹具（样品架）来进行高精度抛光。用于镜面抛光、平行平面抛光等。 主要用于机械抛光，在某些情况下也可用于CMP。
该方法通过将工件浸入电解液中并施加直流电源来产生抛光效果。
选择样品抛光机时，应注意以下事项。
样品尺寸（选择能抛光待抛光样品尺寸的抛光机）
样品材质（选择适合材质的抛光板、抛光片、抛光剂等）
抛光目的（抛光方法、夹具的选择等）
精度（提前明确表面粗糙度等要求）
