深度剖析samco紫外线臭氧清洗机装置
一、概述
该装置是一种UV臭氧清洗机，可以对各种半导体工艺进行干燥处理。可以进行有机物去除和表面改性，例如光刻胶灰化以及硅和蓝宝石晶圆清洗。配备紫外线灯、臭氧发生器和加热台，紫外线照射、臭氧和热量之间的相互作用可以实现高效的清洁和表面改性，而不会对基材造成电气损坏。
二、特征
1.由于同时使用紫外线 (UV)、高浓度臭氧 (O₃) 和载物台加热器的热量，因此可以实现高效清洁。
2.离子或电子不会对元件造成损坏。
3.由于配备了使用非贵金属催化剂的臭氧分解器，因此不需要臭氧处理设备。
4.由于大气压处理，不需要真空系统。
5.一键即可实现自动操作。
三、应用实例
1.光刻胶灰化、圆盘
2.亲水处理
3.硅、化合物半导体、晶体、ITO薄膜、透镜等的清洗。
