HORIBA 钠离子计 就地清洁过程中残留钠的检查

HORIBA 钠离子计 就地清洁过程中残留钠的检查

苛性钠或氢氧化钠 (NaOH) 是加工厂就地清洗 (CIP) 碱性清洗溶液中常用的化学品。测量水冲洗或擦拭液中的钠离子浓度可以指示残留化学品是否已从工艺设备中正确清除。

介绍
就地清洗 (CIP) 是一种无需拆卸即可清洗管道、容器、工艺设备、过滤器和相关配件内表面的方法。CIP 系统由称为可编程逻辑控制器 (PLC) 的数字计算机运行，以控制化学溶液（可能是酸性、碱性或有时两者兼有）的流量、温度和时间，以实现清洁。化学溶液在罐和/或管线中循环，以消除污染物或产品残留物，然后用水冲洗。根据 CIP 系统，化学溶液可能会流回储液器，以便重新使用或使用后立即排出。
CIP 之后，设备应明显清洁，无化学残留物。最终的水冲洗必须确保化学残留物被正确去除。清洁溶液中的化学残留物可以通过特定或非特定分析方法监测。检测清洁溶液中单个成分的特定方法包括离子选择性电极 (ISE)、高效液相色谱 (HPLC)、薄层色谱 (TLC)、火焰光度法和紫外光谱法。检测成分混合物存在的非特定方法包括 pH、电导率和总有机碳 (TOC)。监管机构通常更喜欢特定方法，但他们可能会接受非特定方法，只要有充分的理由使用它们。
由于 CIP 提供快速、可重复且有效的清洁，且不会对人体造成化学物质暴露风险，因此它被用于对卫生要求较高的行业，如乳制品、饮料、加工食品、制药和化妆品。CIP 通常用于清洁制造设施中的生物反应器、发酵罐、混合容器和其他设备，许多 CIP 系统使用含有 0.5 至 2%（按重量计）苛性钠或氢氧化钠 (NaOH) 的碱性清洁溶液来去除脂肪和蛋白质。
LAQUAtwin B-722 或 Na-11 钠离子计可用于测量和监测加工厂 CIP 期间的残留钠离子 (Na + ) 浓度。该计可分析少至 0.3 毫升的样品，并在几秒钟内提供结果。这种快速、简单且准确的测量可提高 CIP 的清洁效率。
方法
根据制造商的说明，使用套件中包含的 150ppm 和 2000ppm 钠离子标准校准 LAQUAtwin B-722 或 Na-11 钠离子计。
样品测量
冲洗水取样和擦拭取样是测量清洁化学品残留物的两种取样方法。最好将这两种方法结合起来。
冲洗水取样涉及从已循环到所有表面的平衡冲洗水（通常是注射用水或纯水）中取样。要测量，请使用移液器将冲洗水样品滴到钠离子传感器上。或者，打开传感器防护罩并将传感器浸入装有冲洗水的烧杯中。
擦拭或擦拭取样直接在设备表面进行。这样做是为了确保残留物得到充分检测，而不是简单地停留在表面上，不会溶解到平衡的冲洗水中。在开始擦拭之前，让设备在清洁程序后干燥，并用注射用水或纯净水润湿仪表套件中包含的取样纸。要测量，请用湿润的取样纸擦拭表面，然后将其放在传感器上。此取样方法需要空白准备。

结果和效益
清洁验证是现行良好生产规范的重要组成部分，旨在确保与设备表面接触的生产材料不受污染。预冲洗、碱循环和其他步骤必须按正确的顺序进行。需要检查清洁化学品的性质、纯度和强度以及用于冲洗的水的质量。此外，验证协议必须包括对残留清洁化学品的测试，以确保正确去除所用的清洁化学品。分析必须是定量的，验收标准根据监管指南和公司政策确定。上表显示了 LAQUAtwin B-722 钠离子计的测量结果。