日本进口Ushio牛尾VUV-S172-LES紫外线清洗装置
1.简介
UV/O3清洗是使用紫外线产生活性氧，同时分解、氧化挥发除去附着在基板表面的有机物的干清洗方法。这是对放置在大气中的基板照射真空紫外线的简便方法，进入20世纪80年代后半期，随着LCD产业的发展而被导入到制造工序中。作为湿处理的前工序、成膜工序的前清洗等使用，光源使用低压水银灯。
近年来，要求基板尺寸的大型化、处理时间的缩短化，准分子光照射装置是为了满足该要求而开发的。
UV/O3清洗的原理如下所示。
光的波长越短，其能量越大，分解有机物（CmHnOk）的能力越好。因此，172nm准分子光的清洗能力优于现有的低压汞灯。
2.光源和特征
本装置是搭载了中心波长为172nm的Xe2*准分子灯的准分子光源。
概述装置的结构。
基本结构如图1所示。在金属块上设置的多个圆筒槽上固定有准分子灯。金属块包括冷却水流路以允许水冷，灯通过金属块冷却。在灯和灯之间设置有山形的反射镜，在使窗面的放射照度分布均匀的同时起到有效地取出光的作用。灯、金属块、山形镜被收纳在金属容器内。金属容器具有氮气的入口、出口，容器内充满对准分子光吸收少的氮气。在灯的前面设置有有效透过真空紫外光的窗玻璃（合成石英），由窗玻璃照射准分子光。
作为光源的特征
①不损害寿命，可瞬间点灯点灯点灯
②温度上升少，可以进行低温处理
③由于是平面窗，清扫性好，维护性好
这样的点。不损害寿命地能够进行闪烁点灯意味着仅在必要时点灯即可，实质上导致长寿命化，灯更换次数减少即可。照片1是具有750mmx940mm的窗的照射装置UER759412-172的照片。UER759412-172的概略规格如表.1所示。
随着基板尺寸的大型化，统一曝光清洗方式变得困难，现在提出了扫描方式的高输出单元。最大对应扫描宽度1040mm，窗面辐照度MAX50～60mW/cm2。批量曝光方式、扫描方式都根据用途设计对应。
