神港精机SHINKO SEIKI --ICP金属蚀刻设备
这是以纳米压印模具用ICP蚀刻系统“SERIO”的基本结构为基础，
针对金属定制了腔室内部结构和气体系统的最新蚀刻系统。
兼容最新的半导体和MEMS工艺，我们实现了Al和Cr的纳米级线宽蚀刻。
与传统的SERIO相比，它可以蚀刻广泛的基材和应用，包括除
Si晶圆之外的基材、蓝宝石和GaAs等化合物半导体晶圆、光掩模用玻璃和石英。
与8英寸晶圆兼容的装载锁定类型是标准配置，并且可以根据工艺进行定制，例如加热台和更大的腔室。
与经过验证的多室系统相结合，可以非常轻松地部署到全面的大规模生产应用中。
配备多个蚀刻室和一个SWP灰化室，可以实现高产量、一致的金属膜蚀刻工艺。
我们使用我们的内部演示机进行过程测试，提供好的硬件和软件来满足您的需求。
我们为半导体、MEMS、光掩模、高频器件、光子器件等从工艺开发到量产提供可靠的支持。
