图1. TFT液晶显示器的TFT基板侧的制造流程概述曝光设备主要用于半导体制造现场和液晶显示器等平板显示器（FPD）制造现场。在半导体制造工艺中，以硅晶片为基板，形成氧化膜，涂敷光致抗蚀剂（感光材料），并通过光掩模用从曝光装置发出的强紫外线照射涂敷表面。允许通过蚀刻等去除不需要的部分。这种使用曝光设备的方法称为光刻法。在LCD制造过程中，一般采用玻璃基板，并重复金属薄膜沉积、光刻和蚀刻的多个循环。可以在一个基板上形成像素电极和开关元件(TFT元件等)，并且可以在另一基板上形成具有光的三基色(红、绿和蓝)的滤色器。通过将两个基板粘合在一起并在其间放置液晶材料，就完成了用于 LCD 显示器的面板。选择曝光设备时，需要在购买前与设备制造商充分讨论曝光所用光源的类型和精度、载物台的精度等，因为其价格非常昂贵。 
