全球电子设备市场持续扩大，支撑其的半导体产业变得越来越重要。尽管2019年全球半导体市场经历了负增长，但尽管过去经历过雷曼冲击，但仍持续扩张。近年来，存储器的技术发展从微型化转向3D技术，刻蚀技术的重要性日益增加。
截至2018年，半导体光刻设备的市场规模为10852亿日元。
按消费地区划分，韩国以 36% 排名di一，其次是中国台湾地区（19%），第三位是中国大陆（18%），第四位是美国（14%），第五位是日本（7%）。半导体光刻设备厂商按国籍划分的市场fen e （2018年）为欧洲（84%）、日本（14%）和美国（2%），其中欧洲和日本几乎形成寡头垄断。
关于EUV曝光设备
EUV（Extreme Ultraviolet的缩写）曝光设备是一种使用被称为极紫外光的极短波长光的半导体曝光设备。可以加工使用ArF准分子激光的传统曝光设备难以加工的更精细尺寸。
半导体小型化正在按照摩尔定律进展（半导体集成电路的集成度和功能将在三年内提高四倍）。到目前为止，通过称为步进器的缩小投影曝光技术、更短的曝光波长和浸没式曝光技术的开发，分辨率已得到显着提高。
小型化是指晶圆上可印刷的最小加工尺寸变得更小，最小加工尺寸R由下面的瑞利方程表示。
R=k·λ/NA *k为比例常数，λ为曝光波长，NA为曝光光学系统的数值孔径
通过各种技术的发展，通过减小k、减小λ和增大NA来实现小型化。
EUV曝光设备是一种可以通过缩短曝光波长来突破以往限制的技术，近年来已开始量产。
