灰度光刻
一、 灰度光刻
光刻通常是指将掩膜版上的图形转移到涂有光致抗蚀剂（或称光刻胶）的硅片上，通过一系列生产步骤将硅片表面薄膜的特定部分除去的一种图形转移技术。
光刻示意图
灰度光刻是利用光刻胶在低剂量曝光下的不wan quan显影，在不同位置给予不同的剂量从而获得光刻三维结构的曝光方式。
灰度光刻示意图
二、灰度光刻的常见方式
灰度光刻被广泛应用于光通信、第三代半导体、微纳光学、微纳电子学、超材料、量子通信和量子计算等前沿研究领域。目前实现灰度光刻的常见方式有三种：电子束光刻、单点激光直写和DMD无掩膜光刻。
01 电子束灰度光刻
电子束灰度光刻需要套刻和刻蚀相结合来实现。将结构划分为不同刻蚀深度的区域，然后通过反复的套刻和刻蚀操作即可得到灰度图样。该方式与传统的紫外光刻相比具有更高的分辨率和精度，可以制作出更复杂的微纳米结构。不过在经过多次光刻处理后，套刻精度会受到限制，同时开发周期被拉长。
02 单点激光直写灰度光刻
单点激光直写灰度光刻，需要将激光束直接聚焦到样品表面通过控制激光在不同位置的剂量变化实现对灰度图形的控制和加工。与前者相比，其工艺简单，避免了套刻对准环节，但是精度不如前者。
03 DMD无掩膜灰度光刻
DMD无掩膜灰度光刻，是通过可编程的控制器件调制照明光束，从而达到曝光不同图形的目的。与此同时，通过程序调整DMD的像素灰阶实现灰度调制。该方式极大地简化了光刻制版流程，提高了光刻的灵活性。此外，还具有可重复性好、制作周期短等优点。相比于单点激光直写的方式，在保证精度的同时，又具备了更高的加工效率。
三、关于托托科技
托托科技是一家专注于显微光学加工和显微光学检测的公司，在基于数字微镜器件（DMD）的无掩膜光刻技术领域中进行了数年的深入研究和技术沉淀。特别地，托托科技致力于研究4096连续灰阶的灰度光刻技术，成效显著。托托科技基于自主研发的无掩膜光刻机，开发了如衍射光栅、微透镜阵列、菲涅尔透镜等一系列灰度光刻应用案例。
托托科技一直致力于对设备底层技术的钻研和开发，坚持自主研发创新，不断寻求技术突破，努力为客户带去设备和优良的体验。
应用案例
多级衍射透镜
菲涅尔透镜
TOF扩散器
微透镜阵列
波前调控器件
DOE(衍射光学器件)
螺旋相位片图例
2阶
4阶
8阶
16阶
32阶
64阶
128阶
256阶
