步进曝光机是一种用于光刻（半导体和液晶制造工艺）的投射曝光设备。
随着IC电路图案的小型化，制作全尺寸光掩模图案变得困难。这是指在对大于实际尺寸的掩模图案进行缩小投影曝光时进行分步重复曝光的曝光设备
步进机是一种曝光设备，通过执行步进和重复来曝光整个待曝光区域。
步进机的使用
步进机用于半导体和液晶的制造，特别是用于光刻过程中使用掩模的曝光处理。
步进法包括步进重复法和步进重复法，其中，由于一次可以转移的面积较小，因此在步进时将晶圆顺序曝光；以及步进重复法，其中称为扫描仪的标线和存在一种使用步进机进行曝光的类型，该类型与步进机不同，并且可以将其视为扫描仪。
