光谱椭偏仪广泛用于薄膜分析和测量。Holmarc 的光谱椭偏仪采用旋转分析仪椭偏技术来表征薄膜样品。它使用高速 CCD 阵列检测来收集整个光谱。它可以测量从纳米厚度到几十微米
的薄膜，以及从透明材料到吸收材料的光学特性。它能精确测量折射率、薄膜厚度和消光系数等光学常数。
规格
光谱范围：450 - 800 纳米
椭偏仪配置 ： RAE
探测器：3648 像素 CCD 线性传感器
光谱分辨率：1 纳米
入射角：50 - 75 度（分辨率 0.1 度，自动操作）
样品聚焦：自动
样品厚度：0.3 毫米 - 8 毫米
厚度测量范围：20 纳米 - 10 微米
薄膜厚度分辨率：0.01 纳米
测量 R.I 的分辨率：0.001
样品校准 ： 手动倾斜
样品测量 自动
厚度分析：先进的数学拟合算法
软件功能
自动操作
自动样品聚焦
用户可扩展材料库
数据可保存为 Excel 格式
数学拟合算法
多层厚度测量
推导厚度和光学常数
椭偏原理
椭偏仪是一种高灵敏度的薄膜分析技术。其原理依赖于光从表面反射时偏振态的变化。
为了描述与电磁波电场方向相对应的偏振态，选择了两个方向作为参考，即 p 方向（平行）和 s 方向（垂直）。反射光在 p 方向和 s 方向的相位变化不同。椭偏仪可以测量这种偏振状态；
p = rp / rs = tan Ψe iΔ
其中，Ψ 和 Δ 分别是 p 和 s 分量的振幅比和相移。由于椭偏仪测量的是两个值的比值，因此非常精确且可重复。
特点
非破坏性和非接触式技术
分析单层和多层样品
精确测量超薄薄膜
用于测量、建模和自动操作的软件
统一的 (Ψ, Δ) 测量灵敏度
