一、用途简介：
真空充氮烤箱适用于光电、硅晶片、电子芯片、电池、线路板、电子电器、金属加工、制药等各行业作无氧真空快速干燥、退火等高温处理，可充惰性气体防止产品氧化。深受生产线、实验室及科研单位喜爱。
二、主要技术指标：
规格型号： HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000
内箱尺寸(cm)： 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100
外形尺寸(cm)： 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188
总功率： 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW
使用电源： AC 单相 三线 220V 50HZ AC 三相 五线 380V 50HZ
温度偏差： ±3% ±5% ±8%
真空泵： 4升 8升
温度范围(选择)：
□ RT+10℃～200℃
□ RT+10℃～250℃
□ RT+20℃～300℃
真空度范围： 0～-100KPa
控制方式： 按键式控制或PLC触摸屏控制
结构： 一体式结构（内置真空泵）或分体式（外置真空泵）
内箱材质： SUS304#不锈钢
外箱材质： SECC钢板高级烤漆处理
充氮气装置： 1）氮气压力范围：3～4Kg左右；
2）流量计：量程为10L/min-100Lmin；
3）气管配置：∮8mm气管快插口；
4）充氮控制方式：采用时间自动控制或手动控制；
5）排气阀：充氮气的同时打开排气阀，防止箱内高压；
6）氮气：氮气源用户自备。
