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碳镀膜机与高真空蒸发设备的区别

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2024/12/12 11:11:04

碳镀膜机与高真空蒸发设备的区别

碳镀膜机主要分为仅有旋转泵排气的设备或配备涡轮泵的高真空蒸发设备。了解高真空蒸发设备性能的差异在选择设备时非常有用。



旋转泵排气气相沉积设备

VC-300S/W、VES-10
高真空抽真空沉积设备

VE-2013、VE-2050 等
真空排气系统旋转泵旋转泵+涡轮分子泵
沉积真空度1-2(帕)5×10 -3 (Pa)以下
颗粒感
颗粒细,但膜较粗。

颗粒细密,膜质美观。
膜质量该薄膜粗糙且易碎,因为它在与残余分子碰撞时积累。无残留分子,颗粒呈直线飞行、粘附,膜质洁净、坚固。
环绕能力它在与残余分子碰撞时向多个方向散射,因此具有一些环绕特性。颗粒沿直线飞行并粘附,但在阴影区域不形成薄膜。
使用碳气相沉积的目的切片和支撑膜的加固、元素分析、高倍SEM观察、FIB保护膜等。切片和支撑膜的强化、元素分析、高倍SEM观察、FIB保护膜、碳支撑膜的制作、遮蔽法等。




























*碳镀膜机是针对特定用途而设计的,其用途有限,但可以降低设备价格。

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该装置是用于TEM、SEM、X射线分析等的碳膜生成装置。用于防止树脂嵌入样品等的充电。 300W 用于创建特别厚的碳膜,例如 XMA 和 FIB 样品的保护膜。

使用旋转泵进行碳沉积,同时使用皮拉尼真空计监测真空水平。通过始终蒸发一定量的碳,可以实现高度可再现的碳沉积。

请使用专用补充装SLC-30作为碳源。
300S有一对电极,300W有两对电极。 300W 使您可以通过开关将涂层厚度增加一倍。
旋转泵(RP)为外置落地式。请将其安装在坚固的工作台上,以免与RP的振动产生共振。无需水冷。

该产品是一套装置,包括装置本身、旋转泵和 SUS 软管。
需要亲临现场讲解安装和操作。

VC-300设备规格


物品规格
电源AC100V(单相100V 15A)
设备尺寸W255mm x D375mm
x H430mm 重量 18kg
旋转泵排气速度 50ℓ/min (GLD-051)
重量 14.6kg
样品室尺寸内径120mm x 高140mm
样品台尺寸Φ100mm
气相沉积源-样品台距离45mm 至 75mm 可调
可安装样品尺寸Φ98mm,最大样品高度40mm
气相沉积电源排气、蒸发。
每个固定电压进行 2 步切换,预设为最佳电压
碳源专用补充型碳SLC-30












VC-300 耗材清单


专用碳
SLC-30
1箱(100个)

碳纤维
SLC-30
值 10 盒套装

VC300玻璃钢瓶包装(2件1套)

VC300 玻璃腔体

如果夹紧弹簧和防尘板等零件出现劣化或损坏,我们还可以单独制造它们。
对于任何其他维护/维修查询,请通过服务查询与我们联系。



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