Holmarc 的离子交换器是一种专用设备，用于将基片浸入热室中的熔体中形成薄膜。加热器的温度可以控制和固定，最高可达环境温度 400°C。速度、持续时间等由计算机控制精确保持。移动由精密伺服/步进电机控制的线性平台实现。
系统的前面板带有键盘和 LCD 显示屏，使用方便。也可通过电脑进行控制。浸渍持续时间、浸渍速度、退出速度等都是可编程功能。
伺服电机（可选）用作执行器，可实现无振动浸渍和退出。该设备采用台式设计和制造，整个电子设备和伺服电机都安装在一个紧凑的装置中。在实验过程中，基片支架的高度可根据溶液水平进行调整。
规格
执行器：步进电机（可选伺服电机）
驱动机构：精密滚珠丝杠
速度控制：可选
电源输入：230 伏，50 赫兹
电脑连接：串行端口（RS 232）
最大行程：150 毫米
最小牵引速度： 2 微米/秒
最大拉伸速度：9000 微米/秒
