窄带滤光片和截止滤光片的制作工艺存在多方面不同，以下是详细介绍：
窄带滤光片：膜系结构相对复杂，一般由数十层甚至上百层不同折射率和厚度的薄膜组成，通过精确控制各膜层的厚度和折射率，利用光的干涉原理实现窄带透过特性 。例如，采用法布里 - 帕罗腔堆叠的方式进行设计，使中心波长处的光干涉相长，而其他波长的光干涉相消346.
截止滤光片：设计重点在于实现特定波长范围的截止，膜系结构相对简单。比如长波截止滤光片，通过设计多层膜，使短波长的光透过，长波长的光在膜层间反射和吸收而截止。对于吸收型截止滤光片，主要依靠材料本身对特定波长光的吸收特性来实现截止，膜系设计相对更侧重于材料的选择和吸收层的优化257.
窄带滤光片：常用的镀膜技术有离子束溅射和电子束蒸发等。这些方法能够在高真空环境下精确控制每层薄膜的厚度和折射率，保证膜层的均匀性和一致性，从而实现窄带滤光片的高精度光谱特性，但设备成本较高、镀膜速率相对较慢46.
截止滤光片：可采用真空蒸发、磁控溅射、化学气相沉积等多种镀膜技术。真空蒸发适用于金属氧化物和稀土金属化合物等材料的沉积；磁控溅射则适用于涂覆均匀性要求较高的光学薄膜；化学气相沉积常用于复杂结构的薄膜沉积57.
窄带滤光片：制作流程包括基底清洗、镀膜材料准备、膜系设计与优化、高精度镀膜以及严格的质量检测等环节。在镀膜过程中，需要精确控制膜层厚度和折射率，常采用光控监控和石英晶体监控等方法实时监测膜层生长情况，确保膜层厚度和性能符合设计要求146.
截止滤光片：首先要进行基材的准备，如切割、抛光等处理，以确保表面光滑平整，便于后续的镀膜。然后进行涂层沉积，根据不同的镀膜技术和材料选择合适的工艺参数。在薄膜设计阶段，使用光学设计软件进行模拟和优化。制作过程中对膜层厚度和均匀性的监控要求相对较低，主要通过光谱测试等手段对成品进行质量检测，验证其在截止波长范围内的性能57.
