涂层测厚使用参数比较TT260

TT260涂层测厚使用参数比较

为使测量准确，应在测量场所对仪器进行校准。
3.1 校准标准片（包括箔和基体）
已知厚度的箔或已知覆盖层厚度的试样均可作为校准标准片。简称标准片。
a） 校准箔
对于磁性方法，“箔”是指非磁性金属或非金属的箔或垫片。对于涡流方法，通常采用塑料箔。“箔”有利于曲面上的校准，而且比用有覆盖层的标准片更合适。
b） 有覆盖层的标准片
采用已知厚度的、均匀的、并与基体牢固结合的覆盖层作为标准片。对于磁性方法，覆盖层是非磁性的。对于涡流方法，覆盖层是非导电的。
 对于磁性方法，标准片基体金属的磁性和表面粗糙度，应当与待测试件基体金属的磁性和表面粗糙度相似。对于涡流方法，标准片基体金属的电性质，应当与待测试件基体金属的电性质相似。为了证实标准片的适用性，可用标准片的基体金属与待测试件基体金属上所测得的读数进行比较。
b） 如果待测试件的金属基体厚度没有超过表一中所规定的临界厚度，可采用下面两种方法进行校准：
1） 在与待测试件的金属基体厚度相同的金属标准片上校准；
2） 用一足够厚度的，电学性质相似的金属衬垫金属标准片或试件，但必须使基体金属与衬垫金属之间无间隙。对两面有覆盖层的试件，不能采用衬垫法。
c） 如果待测覆盖层的曲率已达到不能在平面上校准，则有覆盖层的标准片的曲率或置于校准箔下的基体金属的曲率，应与试样的曲率相同。
涂层测厚仪TT260
涂层测厚仪TT260有三种测量中使用校准方法: 零点校准、二点校准、在喷沙表面上校准。二点校准法又分一试片法和二试片法。还有一种针对测头的基本校准。本仪器的校准方法是非常简单的。
涂层测厚仪TT260

适用于除 CN02 外的所有的测头。
a） 在基体上进行一次测量，屏幕显示＜×.×μm＞。
b） 按ZERO 键，屏显<0.0>。校准已完成，可以开始测量了。
c） 重复上述a、b 步骤可获得更为的零点，高测量精度。零点校准完成后就可进行测量了。

涂层测厚仪TT260
磁性法测厚受基体金属磁性变化的影响（在实际应用中，低碳钢磁性的变化可以认为是轻微的），为了避免热处理和冷加工因素的影响，应使用与试件基体金属具有相同性质的标准片对仪器进行校准；亦可用待涂覆试件进行校准。
涂层测厚仪TT260
基体金属的电导率对测量有影响，而基体金属的电导率与其材料成分及热处理方法有关。使用与试件基体金属具有相同性质的标准片对仪器进行校准。
涂层测厚仪TT260
每一种仪器都有一个基体金属的临界厚度。大于这个厚度，测量就不受基体金属厚度的影响。本仪器的临界厚度值见附表1。
涂层测厚仪TT260
本仪器对试件表面形状的陡变敏感。因此在靠近试件边缘或内转角处进行测量是不可靠的。
涂层测厚仪TT260
试件的曲率对测量有影响。这种影响总是随着曲率半径的减少明显地增大。因此，在弯曲试件的表面上测量是不可靠的。
涂层测厚仪TT260
测头会使软覆盖层试件变形，因此在这些试件上测出可靠的数据。
涂层测厚仪TT260
基体金属和覆盖层的表面粗糙程度对测量有影响。粗糙程度增大，影响增大。粗糙表面会引起系统误差和偶然误差，每次测量时，在不同位置上应增加测量的次数，以克服这种偶然误差。如果基体金属粗糙，还必须在未涂覆的粗糙度相类似的基体金属试件上取几个位置校对仪器的零点；或用对基体金属没有腐蚀的溶液溶解除去覆盖层后，再校对仪器的零点。
涂层测厚仪TT260
周围各种电气设备所产生的强磁场，会严重地干扰磁性法测厚工作。
涂层测厚仪TT260
本仪器对那些妨碍测头与覆盖层表面紧密接触的附着物质敏感，因此，必须清除附着物质，以保证仪器测头和被测试件表面直接接触。
涂层测厚仪TT260

测头置于试件上所施加的压力大小会影响测量的读数，因此，要保持压力恒定。
涂层测厚仪TT260
测头的放置方式对测量有影响。在测量中，应当使测头与试样表面保持垂直。

对于磁性方法，标准片的基体金属的磁性和表面粗糙度，应当与试件基体金属的磁性和表面粗糙度相似。
对于涡流方法，标准片基体金属的电性质，应当与试件基体金属的电性质相似。
检查基体金属厚度是否超过临界厚度，如果没有，可采用3.3）中的某种方法进行校准。
不应在紧靠试件的突变处，如边缘、洞和内转角等处进行测量。
不应在试件的弯曲表面上测量。
测量前，应清除表面上的任何附着物质，如尘土、油脂及腐蚀产物等，但不要除去任何覆盖层物质。