奥林巴斯BX51M的八大观察法
奥林巴斯BX51M金相显微镜（OLYMPUS BX51M），在工业检测方面拥有八大观察法去应对不同要求的产品观察！下面我为大家详细的介绍这八大观察法！
*：暗视场观察法，暗视场可以让我们观察来自样本散射和衍射的光线。光源的光线会先穿过照明装置的环形光学照明器件，然后再样本上聚焦。样本上的光线之时由Z轴上的瑕疵反射形成的。因此，我们可以观察到比光学显微镜分辨率极限更小的、8nm级的微小划痕和缺陷。暗视场适合检测样本上的微小划痕及瑕疵和检查表面光滑的样本，包括晶圆。
（表面安装板效果）
第二：偏振光观察法，该显微观察技术所使用的偏振光是由一组滤镜（检偏器和起偏器）产生的。样本特征会直接影响系统反射光强度。该观察方法适用于观察金相组织（例如：球墨铸铁中石墨的生长图案）、矿物、LCD和半导体材料。
（石棉观察效果）
第三：红外线（IR）观察法，对使用了硅片、玻璃等易投射红外线的电子设备的内部进行无损检测时，IR观察十分有效。IR物镜也可以用于近红外线技术，例如：拉曼光谱和YGA激光修复应用。
（硅晶片下的半导体电路）
第四：处理滤镜观察法，滤镜可以用于边缘检测、平滑处理和其他操作。使用处理滤镜在拍摄的图像上进行增强和修改处理后，图像的特征变为可视化。为达到*效果，可使用预览图检查或调整滤镜的果。
（枝晶观察效果）
第五：微分反射（DIC）观察法，DIC是显微观察技术、可以将明视场观察法中无法检测到的高度差异，用增强对比度以浮雕或三维图像的形式表现出来。该项基于偏振光的技术、拥有三个专门设计的棱镜可供选择以满足用户的需求。该观察法适合于建成高度差异极其微小的样本，包括金相组织、矿物、磁头研磨面和硬盘表面及晶圆研磨面。
（磁头观察效果）
第六：荧光观察法，该技术使用于观察那些受到专门设计的滤镜（可以按照检测需求制作）照明时会出现荧光（发射出不同波长的光线）的样本。该方法通过荧光染色。应用于观察半导体晶圆表面的污物、抗腐蚀剂的残渣和裂痕的检测。可以添加选购的复消色差光源聚光透镜系列，从而为可见光到近红外范围内的色差进行补偿。
（半导体晶圆上的颗粒效果）
第七：投射观察法，对于透明样本，如，LCD、塑料和玻璃材料，可通过各种透射光聚光实现真正的透射光观察。使用投射光可以在明视场、暗视场、DIC和偏振光中对样本成像和检查所有这些都在一个便捷的系统里。
（LCD彩色滤镜观察效果）
第八：3D观察法，使用奥林巴斯的外部电动调焦单元，可以快速地记录并组合超出焦深之外的样本图像。只要一键操作，使用其EFI功能便可以将各个不同焦深的图像组合成一副3D图像。zui终的3D数据可用于3D观察或用于检测高度和距离。
（硬币的细节3D效果）
以上的详细介绍是奥林巴斯BX51M的八大观察方法！希望能为广大检测员和显微镜知识学习者带来帮助。
