该设备支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。
EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。
对于压印工艺，EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到直径150毫米不等。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括印章的释放机制。EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的压印，该卡盘设计既支持软印章也支持硬印章。
纳米压印机技术数据：
1) 晶圆直径（基板尺寸）
2) 标准光刻：碎片蕞大150毫米
3) 柔软的UV-NIL：蕞大150毫米的碎片
4) 解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
5) 支持流程：柔软的UV-NIL
6) 曝光源：汞光源或紫外线LED光源
7) 自动分离功能：不支持
8) 工作印章制作：外部
纳米压印机特征：
1) 顶部和底部对准能力
2) 高精度对准台
3) 自动楔形误差补偿机制
4) 电动和配方控制的曝光间隙
5) 支持新的UV-LED技术
6) 蕞小化系统占地面积和设施要求
7) 分步流程指导
8) 远程技术支持
9) 多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
10) 敏捷处理和光刻工艺之间的转换
11) 台式或带防震花岗岩台的单机版
纳米压印机主要应用：
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，支持尺寸从碎片到蕞大150毫米。
附加功能：
1) 键对准
2) 红外对中
3) 纳米压印光刻
4) 微接触印刷
纳米压印工艺结果：
图1 微镜头
图2 纳米压印结果（100纳米分辨率）
