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半导体前道工艺设备

多腔等离子体工艺系统 多腔等离子体刻蚀系统 CIF透射电镜样品杆存储仪 CIF烤胶机 CIF匀胶机 CIF臭氧中和器 CIF紫外臭氧清洗机 CIF扫描电镜等离子清洗机 CIF手套箱专用等离子清洗机 CIF透射电镜样品杆清洗机 CIF等离子去胶机 RIE反应离子刻蚀机 3.CIF 生产型等离子清洗机 CIF 实验室型等离子清洗机2 CIF 实验室型等离子清洗机 刻蚀机终点检测系统 有掩膜光刻机 无掩膜/激光直写光刻机 步进式Stepper光刻机 电子束光刻系统 纳米压印系统 喷涂胶机 实验型匀胶机 充氮型程控烤胶机 等离子清洗&去胶机 槽式湿法刻蚀清洗设备 电镀设备 磁控溅射镀膜机Sputter 热蒸发镀膜机Thermal Evaporation 镀膜机 等离子增强化学气相沉积PECVD 电感耦合等离子体刻蚀ICP 反应性离子刻蚀系统RIE 离子束刻蚀系统IBE 深硅刻蚀系统DEEP SI ETCH 化学气相沉积MOCVD 分子束外延薄膜沉积系统MBE 离子注入机 快速退火炉RTP 激光退火设备 化学机械抛光机CMP CMP后清洗机 划片机 减薄机 半导体研磨抛光机 中央供药系统 晶圆甩干机 全自动SCRUBBER清洗机 低压化学气相沉积系统LPCVD

半导体封装设备

贴片机、手动/半自动微组装系统 键合机 推拉力测试机 贴片机 激光开封机 半导体烘箱 热拆键合机 点胶机 自动光学检查系统 回流焊炉 共晶炉

半导体分析测试设备

扫描电镜SEM 透射电镜TEM 聚焦离子束系统FIB 光学轮廓仪 探针式轮廓仪/台阶仪 X射线衍射仪XRD CT系统 X-Ray 探针台 霍尔效应测试仪 高速高分辨显微共焦拉曼光谱仪 智能型多功能椭偏仪 超景深显微镜 工业显微镜 立式高温试验箱 高低温(湿热) 试验箱 冷热冲击试验箱 深能级瞬态谱仪(DLTS) 四探针电阻率测试仪 傅里叶红外光谱仪 钛宝石飞秒激光放大器 接触角测试仪 真空手套箱 高速精密切割机 研磨抛光机 扫描声学显微镜 热翘曲系统 电子万能试验机 TEM Mill 精密离子减薄仪 离子研磨系统 扫描隧道显微镜

半导体光电测试仪表

光波器件分析仪 采样示波器 光波测量系统 光调制分析仪 高性能比特误码率测试仪 任意波形发生器 器件电流波形分析仪 微波网络分析仪 矢量信号发生器 信号源分析仪 相位噪声测试系统 信号分析仪 精密型 IV 分析仪 示波器 精密型源表 68 通道便携式逻辑分析仪 直流电源分析仪 阻抗分析仪 动态功率器件分析仪/双脉冲测试仪 功率分析仪

晶圆键合及解键合设备

翻新光刻机

高真空互联物理气相薄膜沉积系统

行业专用仪器及设备

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