- 面议
参考价：
起订量：
BAM2plus 布鲁斯特角显微镜
- 型号
- BAM2plus
公司产品主要有：X射线衍射系统；多功能稳定度分析仪 ；奈米颗粒大小分析仪；光电制造和检测系统；粘度分析系统；粒度及微流变分析系统；数字全析显微镜；呈象椭偏仪，布氏角显微镜，LB 薄膜分析；接触角及表面张力分析仪；沾笔式纳米制程技术；在线粘度计；原子薄膜沉积仪。
源顺有限公司
源顺有限公司是一家专门从事纳米科技，材料分析，光电产品检测及生产设备销售和技术咨询的高科技公司。我们*代理具有*水平的分析仪器，产品涵盖了微观结构观察，物理性能，力学性能及电磁学性能。
Total Solution ，为客户提供整体解决方案，是源顺公司一贯坚持的宗旨。 这个宗旨象征*、品质与客户服务，并将在新的世纪中，全面提升服务品质以伴随您的阔步发展。
源顺公司秉持企业文化：『诚信』、『品质』、『服务』、『团队』、『创新』，本着其宗旨『Total Solution』，继续将*的技术，以Z佳的成本效益，提供客户*质的精密分析仪器和生产设备，并坚持Z*的服务。
公司产品主要有：
LUM公司: 多功能的颗粒状态与稳定度分析仪
Qudix公司: 奈米 & 微米颗粒大小分析仪。
Scinco公司: 可见光及紫外光光度计(UV-Vis Spectrophotometer), Colormate。
SOFRASER公司: 在线粘度计。
ProRheo公司: 高阶粘度计。
Rame-hart公司: 接触角及表面张力分析仪。
AET 公司: 微波诱电分析仪
NANOFILM公司: 呈象椭偏仪，布氏角显微镜，LB 薄膜分析。
UNIOPT公司: 双折射分析仪。
NonoInk: Dip Pen Nanolithography (DPN) 沾笔式纳米制程技术。
ANASYS 公司: Nano-Thermal Analysis。
PNI公司: 原力显微镜(AFM)
Capres公司: MRAM,写磁头的MTJ 磁阻和隧阻&材料表面 Nano微区范围的阻抗分析.
LYNCEETEC公司: DHM (数字全析显微镜)
BEDE公司: 高分辨X射线衍射仪。
OMI公司: Solstice (晶圆或外延片的能阶Bandgap分析，Strained Silicon 分析)。
Equinox (IC or MEMS封装应变,3D热机械变形及CTE分析)。
Pascal公司: 脉冲雷射溅镀MBE(PLD MBE) – ZnO, GaN, etc.。
Cambridge Nano Tech: 原子薄膜沉积仪 (ALD).
EpiQuest公司: 研发型 MOCVD，MBE，VCSEL 氧化系统。
源顺公司总部设在香港，在上海和北京设立了分公司，深圳和成都设立了办事处，并有强大的技术和维修队伍，为客户提供Z高水平的产品和服务。
源顺有限公司是一家专门从事纳米科技，材料分析，光电产品检测及生产设备销售和技术咨询的高科技公司。我们*代理具有*水平的分析仪器，产品涵盖了微观结构观察，物理性能，力学性能及电磁学性能。
Total Solution ，为客户提供整体解决方案，是源顺公司一贯坚持的宗旨。 这个宗旨象征*、品质与客户服务，并将在新的世纪中，全面提升服务品质以伴随您的阔步发展。
源顺公司秉持企业文化：『诚信』、『品质』、『服务』、『团队』、『创新』，本着其宗旨『Total Solution』，继续将*的技术，以Z佳的成本效益，提供客户*质的精密分析仪器和生产设备，并坚持Z*的服务。
公司产品主要有：
LUM公司: 多功能的颗粒状态与稳定度分析仪
Qudix公司: 奈米 & 微米颗粒大小分析仪。
Scinco公司: 可见光及紫外光光度计(UV-Vis Spectrophotometer), Colormate。
SOFRASER公司: 在线粘度计。
ProRheo公司: 高阶粘度计。
Rame-hart公司: 接触角及表面张力分析仪。
AET 公司: 微波诱电分析仪
NANOFILM公司: 呈象椭偏仪，布氏角显微镜，LB 薄膜分析。
UNIOPT公司: 双折射分析仪。
NonoInk: Dip Pen Nanolithography (DPN) 沾笔式纳米制程技术。
ANASYS 公司: Nano-Thermal Analysis。
PNI公司: 原力显微镜(AFM)
Capres公司: MRAM,写磁头的MTJ 磁阻和隧阻&材料表面 Nano微区范围的阻抗分析.
LYNCEETEC公司: DHM (数字全析显微镜)
BEDE公司: 高分辨X射线衍射仪。
OMI公司: Solstice (晶圆或外延片的能阶Bandgap分析，Strained Silicon 分析)。
Equinox (IC or MEMS封装应变,3D热机械变形及CTE分析)。
Pascal公司: 脉冲雷射溅镀MBE(PLD MBE) – ZnO, GaN, etc.。
Cambridge Nano Tech: 原子薄膜沉积仪 (ALD).
EpiQuest公司: 研发型 MOCVD，MBE，VCSEL 氧化系统。
源顺公司总部设在香港，在上海和北京设立了分公司，深圳和成都设立了办事处，并有强大的技术和维修队伍，为客户提供Z高水平的产品和服务。
详细信息
功能应用
BAM2plus薄膜图像系统是一种*由计算机控制、采用发动机控制电路技术的系统,可在计算机屏幕直接实时图像及进行图像处理。目镜扫描器提供的扩展景深可实现全聚焦图像。高功率绿色激光与出色的目镜组合保证了*的分辨率(横向1微米)，接近于这项技术的物理极限。基于Windows95/98/2000的软件使操作简单方便。作为一种完*方案，BAM2plus系统本身已包括计算机、电子设备及所需的软件，可在您现有的槽或在我们集成的NIMA的槽上立即工作。
应用
观察单层相l 微区和有序现象
单层向多层结构转变
光化学反应，如感光异构l 固体结构上的LB膜
各种亚混合物对单层结构的影响
不能被荧光显微镜检测检测到的聚合物或其它材料
表面吸附动力学
单相的现场聚会
相分离
LB膜均匀性质量
主要特点
MiniBAMplus易用微型Brewster角显微镜( PC成像系统)与b/w视频控制器相比，MiniBAMplus配有PC和用于图像获取及分析的软件
可选附属设备及附件
3.5”磁光学图像存储的驱动器
模拟信号输入A/D (如同时存储当前的表面压力与图像)
强光源或可连外部光源的光纤
升级到Elli2000u 可转换目镜
安装前附加软件包
图像打印解决方案(激光和彩色打印机)
尘埃保护与安全箱
安装前网络适配器
技术参数
控制系统
软件
用户 Windows2000 图形界面
计算机
高性能 PC ， 19” 显示器
光学系统
光源
高强绿色 Nd:YAG 激光 〉20 mW @532nm (〉50 mW 可选 )
调节器
可连续调节激光强度 1-100 %
目镜
数值孔径 0.21 (0.35 可选 ) ，工作距离 20mm ，高质，可调
空间分辨率
2 微米 ( 1 微米可选
扫描仪
过焦成像目镜，计算机控制
视野
宽约 0.5 ( 0.25 )mm ( 高度 = 宽度 x 0.75 / cosα) ( α= 入射角 )
角度
45°-- 80°
偏光系统
高质 Glan-Thomson 及薄膜偏光器
力学系统
测角计
自动化， 45°- 80°, 0.01° 精度
分析仪 / 偏光仪
微精自动化
旋转工作台
垂直升降 ( z 升降 )
自动垂直定位
底托
灵活，可定制带水准测量螺杆的底托
图象处理系统
照相机
计算机控制，高级 CCD 照相机 (768 x 572 个象素 )
可变电子快门调速及增益控制
CCIR 标准 ( 可采用 EIA)
图像捕捉
科研级 PCI 总线设计
实时电脑显示抓图器 (1280 x 1024 象素 )
图像处理
--” 目镜扫描仪 ” 模块提供过焦成像
-- 各种图像处理功能 ( 调整大小， 轮廓，过滤，背景补偿等 )
-- 在硬盘上存储图像
BAM2plus薄膜图像系统是一种*由计算机控制、采用发动机控制电路技术的系统,可在计算机屏幕直接实时图像及进行图像处理。目镜扫描器提供的扩展景深可实现全聚焦图像。高功率绿色激光与出色的目镜组合保证了*的分辨率(横向1微米)，接近于这项技术的物理极限。基于Windows95/98/2000的软件使操作简单方便。作为一种完*方案，BAM2plus系统本身已包括计算机、电子设备及所需的软件，可在您现有的槽或在我们集成的NIMA的槽上立即工作。
应用
观察单层相l 微区和有序现象
单层向多层结构转变
光化学反应，如感光异构l 固体结构上的LB膜
各种亚混合物对单层结构的影响
不能被荧光显微镜检测检测到的聚合物或其它材料
表面吸附动力学
单相的现场聚会
相分离
LB膜均匀性质量
主要特点
MiniBAMplus易用微型Brewster角显微镜( PC成像系统)与b/w视频控制器相比，MiniBAMplus配有PC和用于图像获取及分析的软件
可选附属设备及附件
3.5”磁光学图像存储的驱动器
模拟信号输入A/D (如同时存储当前的表面压力与图像)
强光源或可连外部光源的光纤
升级到Elli2000u 可转换目镜
安装前附加软件包
图像打印解决方案(激光和彩色打印机)
尘埃保护与安全箱
安装前网络适配器
技术参数
控制系统
软件
用户 Windows2000 图形界面
计算机
高性能 PC ， 19” 显示器
光学系统
光源
高强绿色 Nd:YAG 激光 〉20 mW @532nm (〉50 mW 可选 )
调节器
可连续调节激光强度 1-100 %
目镜
数值孔径 0.21 (0.35 可选 ) ，工作距离 20mm ，高质，可调
空间分辨率
2 微米 ( 1 微米可选
扫描仪
过焦成像目镜，计算机控制
视野
宽约 0.5 ( 0.25 )mm ( 高度 = 宽度 x 0.75 / cosα) ( α= 入射角 )
角度
45°-- 80°
偏光系统
高质 Glan-Thomson 及薄膜偏光器
力学系统
测角计
自动化， 45°- 80°, 0.01° 精度
分析仪 / 偏光仪
微精自动化
旋转工作台
垂直升降 ( z 升降 )
自动垂直定位
底托
灵活，可定制带水准测量螺杆的底托
图象处理系统
照相机
计算机控制，高级 CCD 照相机 (768 x 572 个象素 )
可变电子快门调速及增益控制
CCIR 标准 ( 可采用 EIA)
图像捕捉
科研级 PCI 总线设计
实时电脑显示抓图器 (1280 x 1024 象素 )
图像处理
--” 目镜扫描仪 ” 模块提供过焦成像
-- 各种图像处理功能 ( 调整大小， 轮廓，过滤，背景补偿等 )
-- 在硬盘上存储图像
