产品介绍：P-1等离子表面活化处理系统

P-I等离子表面活化处理系统是一款业内使用zui多的，集等离子清洗、等离子刻蚀（Plasma Etching）、反应离子刻蚀（RIE）为一身的多功能。 目前在世界各地的许多不同领域均有该款在运行之中。 例如，P-1被发现被广泛用于医疗、半导体、电子，PCB（印刷电路板）、工业制造和太阳能电池领域。P-1是一款真正杰出的等离子表面处理系统设备。

P-1可在两种*的等离子处理模式下运行：

1）普通等离子处理模式：等离子清洗机、等离子刻蚀机模式；
2）RIE反应离子刻蚀处理模式： -反应离子刻蚀（RIE）的等离子体处理模式；

P-1纵览
对于批量等离子表面处理的好处是更好的附着力或打标，更清洁的部件；而使用更少的劳动力和化学品费用减少，无需消除不受欢迎的化学废物而花费昂贵的处理的清理和涂刷费用。 较大的铝质真空舱可容纳一个宽大需要活性等离子表面清洗的工件；标准配置包括5套等离子处理工件架，可提供13600平方厘米（cm²）的可用等离子处理加工区。

P-1标准配备触摸屏控制，这使得控制处理非常容易，因为程序或参数被保存，以备将来使用。可以很容易地保持生产和运行在一个标准的、用户友好的自定义软件和程序之中，P-1操作非常容易。更加客户配置定制电极，以满足不同产品工件的大小和间距的要求，而不收取额外费用。

P-1特点

直观且简单易用的触摸屏界面控制每一个等离子清洗过程的环节，从而确保可靠性和可重复性。

P-1控制台结构紧凑，从而占用很小的空间。真空泵浦系统提供特别准备的真空泵，可与氧气服务。 真空泵系统配以两点氮气（N2）吹扫系统，以减轻腐蚀性副产品在真空泵浦系统中的产生，从而延长了真空泵浦系统的使用寿命和降低使用卤化气体系统的维护周期。

P-1真空舱及电极可按客户配置定制，以满足客户对的要求;，如 RIE（反应离子刻蚀）、半导体引线框架盒、水平和垂直旋转电极。

P-1规格

标准P-1配置
铝合金真空舱：63.50 cm 宽  x  63.50 cm深  x 53.00高
电极设置：五套 51.00cm  X 53.00cm水平电极，每套电极板间隔7.6cm
射频电源：600瓦@13.56MHz射频电源;自动匹配器网络  
工艺气体控制：单套500 SCCM质量流量控制器 （MFC）
真空监测系统：皮拉尼真空计0-1托
控制器系统：微处理器系统，配备触摸屏界面
工艺程序存储功能：可存储多达20个双步骤程序
真空泵浦系统：29 CFM氧气服务真空泵系统，配备油雾分离器

可选配P-1配置
静电屏蔽；
工艺温度控制；
1250瓦@13.56MHz 射频电源；
59 CFM氧气服务真空泵系统；
355 CFM真空增压机；
RIE（反应离子刻蚀）电极配置；
低供应压力气体报警器；
微软计算机控制系统，配备触摸屏接口；
直观的等离子体刻蚀操作软件，具备数据报告、事件监控、打印功能；
信号灯塔、活跃真空控制器、 4套质量流量控制器（MFC）；
自动两点氮气（N2）真空泵吹扫、真空舱氮气（N2）吹扫速度控制；
真空泵排气油雾凝聚式过滤器
其它按客户需求定制的真空舱及电极设置；

其它可选配配置
闭环式射频电源冷却器
填充床烟气洗涤器
压缩空气干燥机（吹扫气体发生器）

P-1规格
重量：约 550公斤
真空泵浦重量：约70公斤
占地尺寸：180 cm  X  92cm  X 82cm
真空泵浦占地尺寸：41cm X 77cm X 44cm

P-1设备外部安装要求
电源：交流，3相30安培，
压缩空气：0.55~0.70 MPa，14升/分钟
系统环境温度：29摄氏度
工艺气体压力：0.10 MPa

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