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Microwriter ML3 小型台式无掩膜光刻系统
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生产厂家我们是谁
美国Quantum Design公司是科学仪器制造商,其研发生产的系列磁学测量系统及综合物性测量系统已成为业内进的测量平台,广泛分布于全球材料、物理、化学、纳米等研究域的科研实验室。Quantum量子科学仪器贸易(北京)有限公司(暨Quantum Design中国子公司) 成立于2004年,是美国Quantum Design公司设立的诸多子公司之,在全权负责美国Quantum Design公司本部产品在中国的销售及售后技术支持的同时,还致力于和范围内物理、化学、生物域的科学仪器制造商进行密切合作,帮助中国市场引进更多全球范围内的质设备和技术,助力中国科学家的项目研究和发展。
我们的理念
Quantum Design中国的长期目标是成为中国与进行进技术、进仪器交流的重要桥头堡。助力中国科技发展的十几年中,Quantum Design中国时刻保持着积进取、不忘初心、精益求精的态度,为中国科学家提供更质的科学和技术支持。随着中国科学在舞台变得愈加举足轻重,Quantum Design中国将继续秉承“For Scientist, By Scientist”的理念,助力中国科技蓬勃发展,助力中国科技在腾飞!
我们的团队
Quantum Design中国拥有支具备强大技术背景、职业化工作作风的团队,并致力于培养并引进更多博士业技术人才。目前公司业务团队高学历业硕博人才已占比超过70%以上,高水平人才的不断加入和日益密切的团队配合帮助QD中国实现连续几年销售业绩的持续增长
我们的服务
Quantum Design中国拥有完善的本地化售前、售中和售后服务体系。国内本地设有价值超过50万美元的备件库,用于加速售后服务响应速度;同时设有超过300万美元的样机实验室,支持客户对设备进行进步体验和深度了解。 “不仅提供超的产品,还提供超的售后服务”这将是Quantum Design中国区别于其他科研仪器供应商的重要征,也正成为越来越多科学工作者选择Quantum Design中国的重要原因。
小型台式无掩膜光刻系统
小型台式无掩膜光刻系统Microwriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究域提供方便高效的微加工方案。
传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法,克服了这问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。
Microwriter ML3 是款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。
产品点
Focus Lock自动对焦功能 Focus Lock技术是用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。 | 光学轮廓仪 Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向高精度100 nm,方便快捷。 |
标记物自动识别 点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。 | 直写前预检查 软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。 |
简单的直写软件 MicroWriter 由个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。 | Clewin 掩模图形设计软件 可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等) 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式 书写范围只由基片尺寸决定 |
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产品参数
Microwriter ML3 | 基本型 | 增强型 | 旗舰型 |
大样品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm |
大直写面积 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 适用于SU-8 (365+405nm双光源可选) |
直写分辨率 | 1μm | 1μm and 5 μm | 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm |
直写速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm 120mm2/min @ 5μm | 25mm2/min @ 0.6μm 50mm2/min @ 1μm 100mm2/min @ 2μm 180mm2/min @ 5μm |
对准显微镜镜头 | x10 | x3 and x10 自动切换 | x3, x5, x10, x20 自动切换 |
多层套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm |
小栅格精度 | 200nm | 200nm | 100nm |
样品台小步长 | 100nm | 100nm | 50nm |
光学轮廓Z分辨率 | 无(可升) | 300nm | 100nm |
样品表面自动对焦 | 是 | 是 | 是 |
灰度直写(255) | 是 | 是 | 是 |
自动晶片检查工具 | 无(可升) | 有 | 有 |
温控样品腔室 | 无 (可升) | 无 (可升) | 有 |
虚拟模板校准工具 | 无(可升) | 无(可升) | 有 |
气动减震光学平台 | 无(可升) | 无(可升) | 有 |
应用案例
直写分辨率1μm
直写分辨率0.6μm
微电制备
光刻胶上的图形 | Au电 (SEM) | Au电(SEM) |
设计图 | 光刻胶上的图形 | 放大图的显微结构 |
微结构制备
微流通道制备
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