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WS-1000 Laurell 湿法刻蚀设备

型号
WS-1000
参数
产地类别:进口 应用领域:化工,电子
迈可诺技术有限公司

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Laurell-WS半导体湿法刻蚀系列

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匀胶机,光刻机,显影机,等离子清洗机,紫外臭氧清洗机,紫外固化箱,压片机,等离子去胶机,刻蚀机,加热板

半导体化工领域专业实验设备供应商:迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司,专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务,帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定,尊重他们的决定,并协助他们实现高效率的科研成果,追求丰富有意义的生活。



详细信息

    WS-1000Wet Station湿法刻蚀设备,全白色聚丙烯构造,可内置任何Laurell公司的旋涂机及显影机,排放简便的入氮口和DI喷头,如果需要单工的系统,可选择WS-1000M湿法刻蚀设备,WS-1000系列旋转处理湿法设备可以被配置成测试模块构造,安装简便,易于拆卸,更便于操作者控制。

一、湿法刻蚀设备功能:
● 涂敷Coating
● 刻蚀Etching
● 显影Developing - Aqueous / Solvent
● 清洗Cleaning-Aqueous / Solvent
● 可选配, Sulfuric硫化物 / Peroxide双氧水,溶液处理(insitu mixing)
● 可选配, HBr溶液处理
● 带温控的显影功能
● 冲洗甩干

 

二、湿法刻蚀设备特点:
● 全PP材质构造
● 可集成Laurell匀胶旋涂系统
● 有排孔的湿站操作台 (易清洁)
● 特殊设计的湿站压力系统Wet plenum
● 带流量计的排液管道
● 各类组件的隔离设计(散热原件,泵浦和压力容器等)

 

三、湿法刻蚀设备材料选择:
可以根据应用选择更高级的材料;
● WS-1000-CP5 符合SEMI S93标准应用在消防安全和洁净空间等领域。CP5符合UL94 V-O 火灾分类标准。它具有优良的平衡的物理性能,耐化学药品性和耐火性。

● WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合Z严格的FMRC 4910测试标准,满足多方面条件下的难燃性,自熄特点和*燃烧。这种*材料也达到或超过产生低烟和Z小毒副产品的检测标准。

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产地类别 进口
应用领域 化工,电子
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