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-OTF-1200X-50-PE-S PECVD管式炉

型号
-OTF-1200X-50-PE-S
中美合资合肥科晶材料技术有限公司

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生产厂家

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真空管式炉,高温箱式炉,高速震动球磨机,RTP快速退火炉,高温高压炉,涂覆机,电池制备设备等
  合肥科晶材料技术有限公司成立于1997年,是由一群来自麻省理工学院和加州大学伯克利分校的材料研究人员创办的美国MTI公司与中科院合肥物质科学研究院合资兴办的高新技术企业。主要生产氧化物晶体(A--Z)和材料实验室成套设备:包括“混料-压料-烧料”(混料机、压片机、箱式炉、真空管式炉)以及“定向-切割-研磨-抛光”(X射线定向仪、低速外圆锯、金刚石线切割机、自动研磨、抛光机)。公司自主研发生产上百款不同规格尺寸、温度、高温高压及快速升温等产品,其中包括:箱式炉、气氛炉、管式炉、井式炉、RTP快速升温炉、高温高压炉、镀膜机、清洗剂及新能源锂离子电池研发等相关实验室设备。现已成为氧化物晶体(A--Z)的主要制造商和材料研究实验室设备的*,为科研工作者提供材料研究解决方案。产品设计*、性能优异,质量可靠,性价比高,环保节能、返修率低,远销到欧洲,美国,日本,德国等许多国家,广泛应用于物理、化学、冶金、医学、新能源材料研发等领域,受到客户*好评。
 
  科晶公司秉承"以人为本、技术为导、诚信为基、积极创新"的经营理念,全力打造材料研发设备的品牌,竭力为科学进步和社会发展做出贡献。
 

详细信息

OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD(等离子体气相沉积)管式炉系统。此套设备带有500W的等离子射频电源,一个炉管直径为50mm的开启式管式炉(带有真空法兰和连接管道)和一个直联式双旋机械泵。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD  系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索,此套系统极为理想。

 

特征:

1、与普通CVD相比可以在低温环境下进行气相沉积实验

2、对于薄膜的应力可以通过射频电源的频率来进行控制

3、通过工艺调节来控制化学计量

4、能够广泛地用于各种材料沉积,如SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等.

 

技术参数

开启式管式炉

  • 输入电源:208 – 240V AC, 1.2kW
  • zui高工作温度1200℃(小于1小时)
  • 连续使用温度1100
  • 采用高纯氧化铝作为炉膛材料,并且表面涂有美国进口高温氧化铝涂层,可延长仪器使用寿命和提高加热效率
  • 高纯石英炉管,尺寸为 50mmOD x 44mmID x  780mmL
  • 可设置30段升降温程序,并带有过热和断偶保护
  • 加热区长度为200mm,恒温区长度为60mm(+/-1°C)

      
                 
    (点击图片查看详细资料)

等离子体射频电源

  • 输出功率: 5 -500W可调
  • 稳定性为+/-1%
  • 射频电源频13.56 MHZ, 稳定性±0.005% 
  • zui大反向功率: 200W max
  • 射频电源电子输出口: 50 Ω, N型半岛体阴极
  • 噪声<50 dB.
  • 冷却方式:空气冷却
  • 输入电源: 208-240VAC, 50/60Hz  
     

真空法兰和接头

  • 真空法兰采用304不锈钢制作
  • 左端法兰上安装有防腐型数字真空计、不锈钢针阀和一个球阀。
  • 右端法兰设计为KF25接口,上面配有泄气阀,挡板阀和两个KF25卡箍
  • 仪器中所配的数字真空计,可以不用因使用气体的不同而进行校正,同时还具有防腐功能(请点击图片查看详细介绍)

      

真空泵

  • AC 220V 50 Hz  1/2HP  375W
  • 2L/s
  • 与本公司管式炉配套使用,可使其真空度达到10-2 torr
  • 进气端带有储气球(防止回油),出气端安装有油雾过滤器(防止油雾扩散到空气中,保护环境和人体健康)
     

产品尺寸和重量

外形尺寸:1500mm x 600mm x 1200mm( L x W x H)

净重: 160 lbs

可选配置

请点击查看下面的混气及气液混合系统

  • 防腐型小型三路浮子混气系统
  • 精密气液混合系统
  • 三路质子混气系统

质保期

一年质保期,终生维护(不包括炉管、硅胶密封圈和加热元件)

质量认证

CE Certified

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