起订量:
CMSD2000 纳米材料研磨分散机
免费会员
生产厂家上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业,依肯通过引进德国xian进技术和科学管理模式,形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与quan球的混合乳化技术同步,同时拥有yi流的技术研究人才和生产能力,为zhong国及quan球提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为中国流体高剪切混合设备行业的者。
公司主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一高剪切分散乳化机,二 均质机,三 粉液混合设备,四 胶体磨,五 搅拌机,六干燥机等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国nei的供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域,并成功为guo家zhong点工程配套,部分产品返销国外,取得了显zhu的经济效益和社会效益。
“追求高品质”是依肯公司是的宗旨。“成功源自创新”亦是公司全体员工一直努力追随的目标。上海依肯机械设备有限公司将以求实、创新的企业精神走向市场。在您在关注和支持下、她将以不断发展壮大,在混合乳化设备制造的广阔天地中散发出*的魅力。
纳米材料研磨分散机是电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化均质分散的效果。
纳米材料极易产生自身的团聚,使得应有的性能难以充分发挥。此外,纳米氧化物的诸多奇异性能能否得到充分发挥,还取决于zui大限度降低粉体与介质间的表面张力。因此,纳米氧化物粉体必须均匀分散,充分打开其团聚体,才能发挥其应有的奇异性能。
纳米材料在涂料体系中的分散,一般是采用下述分散方法来达到分散效果。
研磨分散:利用三辊机或多辊机的辊与辊速度的不同,将研磨料投入加料辊(后辊)和中辊之间的加料沟,二辊以不同速度内向旋转,部分研磨料进入加料缝并受到强大的剪切作用,通过加料缝,研磨料被分为两部分,一部分附加在加料辊上回到加料沟,另一部分由中辊带到中辊和前辊之间的刮漆缝,在此又一次受到更强大的剪切力作用。经过刮漆缝,研磨料又分成两部分,一部分由前辊带到刮刀处,落入刮漆盘,另一部分再回到加料沟,如此经几次循环,可达到分散的目的。但用三辊机或多辊机进行处理效率低,能耗高,满足不了大生产的需求。
◆ 球磨分散: 通过球磨机中磨球之间及磨球与缸体间相互滚撞作用,使接触钢球的粉体粒子被撞碎或磨碎,同时使混合物在球的空隙内受到高度湍动混合作用而被均匀地分散。
◆ 砂磨分散: 砂磨是球磨的外延。只不过研磨介质是用微细的珠或砂。砂磨机可连续进料,纳米粉体的预混合浆通过圆筒时,在筒中受到激烈搅拌的砂粒所给予的猛烈的撞击和剪切作用,使得纳米氧化物能很好地分散在涂料中,分散后的浆离开砂粒研磨区通过出口筛,溢流排出,出口筛可挡住砂粒,并使其回到筒中。通过球磨机和砂磨机分散能取得较好的分散效果及物料细度,但球磨机和砂磨机同样无法避免处理效率低,能耗高的缺点。
◆ 研磨分散机: 高剪切分散机的核心部件是定子/转子结构,转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来强劲的动能,使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械剪切、液力剪切、离心挤压、液层磨擦、撞击撕裂和湍流等综合作用,使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺的条件下,瞬间均匀精细地分散,经过高频的循环往复,zui终得到稳定的高品质产品。与三辊机、球磨机、砂磨机相比,研磨分散机具有效率高、能耗低等显著优点,是分散工艺的shou选。
纳米材料研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
1 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。
3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
纳米材料研磨分散机,德国