起订量:
CMSD2000 纳米氧化铋研磨分散机
免费会员
生产厂家上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业,依肯通过引进德国xian进技术和科学管理模式,形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与quan球的混合乳化技术同步,同时拥有yi流的技术研究人才和生产能力,为zhong国及quan球提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为中国流体高剪切混合设备行业的者。
公司主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一高剪切分散乳化机,二 均质机,三 粉液混合设备,四 胶体磨,五 搅拌机,六干燥机等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国nei的供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域,并成功为guo家zhong点工程配套,部分产品返销国外,取得了显zhu的经济效益和社会效益。
“追求高品质”是依肯公司是的宗旨。“成功源自创新”亦是公司全体员工一直努力追随的目标。上海依肯机械设备有限公司将以求实、创新的企业精神走向市场。在您在关注和支持下、她将以不断发展壮大,在混合乳化设备制造的广阔天地中散发出*的魅力。
纳米氧化铋研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
纳米氧化铋 Bi2O3是一种重要的功能材料,主要以A、B、C和R 4 种品型存在. 晶型不同, 应用不同[1 ]. 氧化铋的应用非常广泛, 它不仅是良好的有机合成催化剂、陶瓷着色剂、塑料阻燃剂、药用收敛剂、玻璃添加剂、高折光玻璃和核工程玻璃制造以及核反应堆的燃料, 而且是电子行业中一种重要的掺杂粉体材料[2~ 4 ]. 纳米氧化铋除了具有一般粒度(1~ 10 Lm )的氧化铋粉末的性质和用途外, 由于粒度更细, 可用于对粒度有特殊要求的场合[5 ] , 如无机颜料、光学材料、电子材料、超导材料、特殊功能陶瓷材料、阴极射线管内壁涂料等.
1.纳米Bi2O3的制备方法
纳米氧化铋的制备方法有很多种, 大致分为固相法和液相法.
固相法
固相法是比较传统的粉末制备工艺, 用于粗颗粒微细化. 目前制备纳米氧化铋采用的是固相反应法. 该法使2 种或几种反应性固体在室温或低温下混合、研磨或再煅烧, 得到所需纳米粉体. 在固相反应制备纳米Bi2O3的过程中, 将Bi(NO3)3·5H2O和NaOH 混合均匀, 加入适量的分散剂, 充分研磨,再经60 ℃恒温水浴, 洗涤和真空干燥, 即得纳米Bi2O3, 颗粒呈多边形, 平均粒径约60 nm.另有报道, 将Bi(NO3)3·5H2O与NaOH 或82羟基喹啉按1∶3 mo尔比混合后, 经研磨, 洗涤及适当的热处理, 也得到了粒径分别为10 nm 和50 nm的纳米级氧化铋. 运用该法制备纳米Bi2O3, 其制备工艺简单、无污染或污染较少, 产率高, 能耗低, 但也存在着所得粉体易结团, 且粒度分布不均、易引入杂质等问题. 然而, 对于粒度及纯度要求不是很高的应用领域, 该法不失为一种经济有效的工业化生产方法.
液相法
液相法是目前实验室和工业上应用的制备纳米粉体的方法. 按照反应的不同原理和环境又可以分为沉淀法、水解法、喷雾法、水热合成法、微乳液法、溶胶2凝胶法、冷冻干燥法及辐射化学合成等方法. 下面是目前已成功制备出纳米氧化铋的几种液相制备方法.
沉淀法
沉淀法是在原料溶液中添加适当的沉淀剂, 使得原料溶液中的阳离子形成各种形式的沉淀物, 然后再经过洗涤、干燥、热分解等工艺过程而得到纳米粉料的方法. 纳米氧化铋的制备采用的是直接沉淀法, 例如, 采用弱碱液相沉淀2灼烧法, 通过添加一定比例的分散剂和有机络合剂, 制得了纯度高(99. 9%以上) , 粒度小, 均匀性好(平均粒度可达0. 02Lm ) 的纳米氧化铋[8 ]. 此法的优点是, 通过溶液中的各种化学反应可直接得到化学成分均一的超微粉体, 操作简单, 生产成本低, 产物纯度高. 该法也是目前工业化生产纳米粉体的zui主要的应用方法.
研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
纳米氧化铋研磨分散机应用领域: 化学工业:油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑,二氧化硅,,炭黑等。 | ||
设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMOD 2000/4 | 50 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMOD 2000/5 | 200 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMOD 2000/10 | 500 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMOD 2000/20 | 1500 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMDO 2000/30 | 3000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMOD2000/50 | 6000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。