注射混悬液胶体磨，注射混悬液高剪切胶体磨，混悬液胶体磨，混悬液高剪切胶体磨，注射混悬液在线式胶体磨

混悬液的贮存存在物理稳定性问题。混悬液中药物微粒分散度大，微粒与分散介质之间存在着物理界面，使混悬微粒具有较高的表面自由能，混悬剂处于不稳定状态。疏水性药物的混悬剂比亲水性药物存在更大的稳定性问题。

若要制得沉降缓慢的混悬液，应减少颗粒的大小，增加分散剂的粘度及减少固液间的密度差。实验工作中主要应用前两种手段增加稳定性。怎样减少颗粒的大小，使混悬液的状态更加稳定呢？

对于混悬液的处理，IKN工程师通常建议选择CMD2000系列研磨分散机，在医药行业通常称为混悬液胶体磨。      李佩佩

注射混悬液胶体磨（CMD研磨分散机）是由胶体磨+分散机组合而成的高科技产品。zui高转速可达14000rpm/min。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。

CMD2000系列研磨分散机的特点：

① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

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