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PlasmaStar 100/100 RIE 反应离子刻蚀机PlasmaStar 100
- 型号
- PlasmaStar 100/100 RIE
半导体化工领域专业实验设备供应商：迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司，专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商，迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务，帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定，尊重他们的决定，并协助他们实现高效率的科研成果，追求丰富有意义的生活。
详细信息
腔室材料是硬质阳极氧化铝， 有几种不同的电极设计，包括用于反应离子刻蚀（RIE）和平面处理的水冷平板电极，用于表面清洗或处理的交替多层托盘电极，用于小化离子损伤的下游电极，和用于普通的圆柱形笼式电极。
1、腔体尺寸：直径≥200mm，深度≥280mm；
2、腔体材质：硬质阳极氧化铝矩形腔体；
3、处理腔背面材质：铝；
4、处理腔门：要求全自动腔门；
5、两路工艺气体，≥2路质量流量控制器控制气体流量，气体输入腔室带匀流设计；
6、射频功率：0~600W连续可调，13.56MHz，自动匹配，自然风冷；
7、配备RIE平面水冷平板电极；
8、7英寸及以上显示器、触摸屏、图形用户界面；
9、程序控制：触摸屏电脑控制，无线程序存储；
10、Windows操作系统，兼容Windows office软件，USB接口，可进行外部电脑远程控制的功能；
11、状态和出错信息提示，过程数据和出错信息存储，可选择自动和手动操作模式，过程数据可以导出，工艺参数以图形方式呈现，可实时监控，自动实现泄露检测；
12、配套紧急急停按钮（EMO)，配套电路断路器，机械联锁（门传感器）和真空联锁（压力开关），通过软件可进行远程的真空联锁；
13、典型的光刻胶刻蚀速率：80nm/min；
14、典型工艺均匀性：≥±10%；
