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起订量：
PlasmaStar 200/200 RIE 等离子刻蚀机
- 型号
- PlasmaStar 200/200 RIE
- 参数
- 应用领域:电子
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详细信息
型号： 反应离子刻蚀机PlasmaStar 200/200RIE
产地： 美国
品牌： Axic
环球供应，本地服务！MYCRO专业为您提供实验室RIE反应离子刻蚀机设备，*的技术服务及售后，MYCRO值得您的的信赖！
技术规格：
型号 | PlasmaStar 100 | PlasmaStar 100RIE | PlasmaStar 200 | PlasmaStar 200RIE |
舱体尺寸 | 直径254×深度356mm | 直径200×深度280mm | 宽305×高305×深406mm | 宽305 ×高200×深406mm |
舱体材质 | 标配为阳极氧化铝舱体 | |||
常用气体 | 空气，氧气，氢气，氩气，氮气，CF4，SF6等和其他混合气体 | |||
气路控制 | 标配2路MFC，PlasmaStar 100多可选配4路， | 标配2路MFC，PlasmaStar 200多可选配5路； | ||
控制系统 | 电阻触摸屏操作界面 | |||
程序控制 | PC触屏控制，可编程序，无线存储数据 | |||
射频频率 | 13.56 MHz | |||
射频功率 | 0~600W瓦之间距连续可调，自动匹配 | 0~1000W瓦之间距连续可调，自动匹配 | ||
电极设计 | 标准圆柱形笼式电极； | 标准圆柱形笼式电极； 可选交替多层托盘电极； 可选RIE平面处理水冷平板电极 | ||
设备尺寸 | 宽800 x 深850 x 高525mm； | 宽1033 x 深850 x 高635mm； | ||
