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CMS2000 催化剂高速胶体磨

型号
CMS2000
上海依肯机械设备有限公司

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乳化机,胶体磨,分散机,粉液混合机,纳米乳化机,纳米分散机,纳米研磨机,纳米粉碎机,高速胶体磨

~ 上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业,依肯通过引进德国IKN技术和科学管理模式,形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与的混合乳化技术同步,同时拥有xx的技术研究人才和生产能力,为中国及提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为中国流体高剪切混合设备行业的XX者。
      公司主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一乳化机(乳化机,高剪切乳化机,管线式乳化机)二 均质机,三 分散机,四 胶体磨,五 乳化泵,六 研磨机,七湿法粉碎机,九成套设备等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国内的XX供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域,并成功为x'x工程配套,部分产品返销国外,取得了显著的经济效益和社会效益。

“追求*品质”是依肯公司是的宗旨。“成功源自创新”亦是公司全体员工一直努力追随的目标。上海依肯机械设备有限公司将以求实、创新的企业精神走向市场。在您在关注和支持下、她将以不断发展壮大,在分散乳化均质粉碎设备制造的广阔天地中散发出*的魅力。

 

 

详细信息

催化剂高速胶体磨,催化剂粉碎机  ,催化剂研磨设备是 透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

 

催化剂 催化剂在化工行业用于催化和加速化学反应。催化剂的造价通常比较高,用量比较少,由无机物衍生而成(如重金属)。催化剂用来为化学反应提供适合的场所,或者成为其中的一种反应物,以促进反应。在这两种情况下,催化剂的活性都是由催化剂与反应物质的接触状况(有效分散)决定的,不断扩充催化剂表面积(防止结块,缩小粒径等)可增强催化剂活性。实践证明,IKN工业设备可以保证催化剂活性得到zui大程度的发挥。增加收益。IKN分散头的特殊设计确保*分散,使催化剂与反应物*接触。更值得一提的是,定转子的高剪切作用(详见技术信息)保证消除结块,恢复原有接触面,获得*反应收益率。

缩短工艺时间。由IKN工业设备在高速率下产生的高剪切作用,保证催化剂和反应物迅速的分散为一相,并加速反应。IKN工业设备输入的高能量也能帮助加速反应转化率。

 

催化剂高速胶体磨的粉碎效果 

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

 

2 胶体磨磨头头的剪切速率  (越大,效果越好)

3 胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

 

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                            g -转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN -转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm 

 

 

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。

IKN 胶体磨   14000转胶体磨

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