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CMS200 高速胶体磨

型号
CMS200
上海依肯机械设备有限公司

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乳化机,胶体磨,分散机,粉液混合机,纳米乳化机,纳米分散机,纳米研磨机,纳米粉碎机,高速胶体磨

~ 上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业,依肯通过引进德国IKN技术和科学管理模式,形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与的混合乳化技术同步,同时拥有xx的技术研究人才和生产能力,为中国及提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为中国流体高剪切混合设备行业的XX者。
      公司主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一乳化机(乳化机,高剪切乳化机,管线式乳化机)二 均质机,三 分散机,四 胶体磨,五 乳化泵,六 研磨机,七湿法粉碎机,九成套设备等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国内的XX供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域,并成功为x'x工程配套,部分产品返销国外,取得了显著的经济效益和社会效益。

“追求*品质”是依肯公司是的宗旨。“成功源自创新”亦是公司全体员工一直努力追随的目标。上海依肯机械设备有限公司将以求实、创新的企业精神走向市场。在您在关注和支持下、她将以不断发展壮大,在分散乳化均质粉碎设备制造的广阔天地中散发出*的魅力。

 

 

详细信息

高速胶体磨,14000转胶体磨,210000转胶体磨是比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上,研磨效果非常好,zui高转速可以达到14000RPM。透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

高速胶体磨

IKN胶体磨通过大能量的输入即由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能,使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用,形成悬浮液(固/液),乳液(液体/液体)和泡沫(气体/液体)。

为了达到巨大的能量输入,IKN采用提高定转子转速的方法。在电机固定三千转的前提下,我们采用立式的结构通过皮带加速达到15000转。这很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高转速下保持稳定——轴承的强度够不够?机械密封会不会因为产生大量的热而损毁泄露?主轴会不会偏振的很厉害,定转子是否会发生摩擦?这些是IKN的关注点,也应该是广大客户在选型时应该重视的几个方面。

 

 

 

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

 

2 胶体磨磨头头的剪切速率  (越大,效果越好)

3 胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

4  物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

 

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。 

剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)   
              g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素: 

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

 

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

 

的型号参数

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMS 2000/4

700

14000

40

4

DN25/DN15

CMS 2000/5

5,000

10,500

40

11

DN40/DN32

CMS 2000/10

10,000

7,300

40

22

DN50/DN50

CMS 2000/20

30,000

4,900

40

45

DN80/DN65

CMS 2000/30

60,000

2,850

40

75

DN150/DN125

CMS 2000/50

100000

2,000

40

160

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。

 

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