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CMSD20000 膨胀石墨研磨分散机

型号
CMSD20000
上海依肯机械设备有限公司

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乳化机,胶体磨,分散机,粉液混合机,纳米乳化机,纳米分散机,纳米研磨机,纳米粉碎机,高速胶体磨

~ 上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业,依肯通过引进德国IKN技术和科学管理模式,形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与的混合乳化技术同步,同时拥有xx的技术研究人才和生产能力,为中国及提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为中国流体高剪切混合设备行业的XX者。
      公司主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一乳化机(乳化机,高剪切乳化机,管线式乳化机)二 均质机,三 分散机,四 胶体磨,五 乳化泵,六 研磨机,七湿法粉碎机,九成套设备等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国内的XX供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域,并成功为x'x工程配套,部分产品返销国外,取得了显著的经济效益和社会效益。

“追求*品质”是依肯公司是的宗旨。“成功源自创新”亦是公司全体员工一直努力追随的目标。上海依肯机械设备有限公司将以求实、创新的企业精神走向市场。在您在关注和支持下、她将以不断发展壮大,在分散乳化均质粉碎设备制造的广阔天地中散发出*的魅力。

 

 

详细信息

膨胀石墨研磨分散机是利用剪切力(shear force)、摩擦力或冲击力(impactforce)将粉体由大颗粒粉碎剥离成小颗粒。
分散:纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住,以便达到颗粒*被分离(separating)、润湿(wetting)、分布(distributing)均匀及稳定(stabilization)目的。

,膨胀石墨(Expanded Graphite,简称EG)是由天然石墨鳞片经插层、水洗、干燥、高温膨化得到的一种疏松多孔的蠕虫状物质。EG 除了具备天然石墨本身的耐冷热、耐腐蚀、自润滑等优良性能以外,还具有天然石墨所没有的柔软、压缩回弹性、吸附性、生态环境协调性、生物相容性、耐辐射性等特性。 早在19世纪60年代初,Brodie将天然石墨与硫酸和硝酸等化学试剂作用后加热,发现了膨胀石墨,然而其应用则在百年之后才开始。从此,众多国家就相继展开了膨胀石墨的研究和开发,取得了重大的科研突破。

膨胀石墨遇高温可瞬间体积膨胀150~300倍,由片状变为蠕虫状,从而结构松散,多孔而弯曲,表面积扩大、表面能提高、吸附鳞片石墨力增强,蠕虫状石墨之间可自行嵌合,这样增加了它的柔软性、回弹性和可塑性。

膨胀石墨研磨分散机

 磨,分散机组合而成的高科技产品。

    *级由具有精细度递升的级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

IKN石墨烯研磨设备采用德国XX的高速研磨分散技术,通过超高
转速(zui高可达14000rpm)带动超高精密的磨头定转子(通常配CM+8SF,定转子间隙在0.2-0.3之间)使石墨烯浆料在设备的高线速度下形成湍流,在定转子间隙里不断的撞击、破碎、研磨、分散、均质,从而得出超细的颗粒(当然也需要合适的分散剂做助剂)。综合以上几点可以得出理想的导电石墨烯浆料。

技术及价格咨询请来电:  ,公司有样机可供客户实验,欢迎广大客户来我司参观指导!我司有着丰富的石墨烯研磨经验,跟常州、无锡、长春、宁波、潍坊、深圳、厦门、东莞等地大型锂电石墨烯、碳纳米管生产企业有着深度合作。欢迎您的来电!

 

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMSD 2000/4

400

14,000

41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1500

10,500

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

72,200

41

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

2,850

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

1,420

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1,100

41

160

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

    石墨烯、 碳纳米管 、碳纤维、 锂电池浆料、电池隔膜 润滑油

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