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起订量：
DMD无掩膜光刻机
- 型号
上海昊量光电设备有限公司
Aunion Tech Co., Ltd
专业源自专注 专注成就未来
自2008年成立以来，昊量光电专注于光电领域的技术服务与产品经销，致力于引进guo外*先进性与创新性的光电技术与可靠产品，为国内Z前沿的科研与工业领域提供优质的产品与服务，助力中国智造与中国创造! 目前，昊量光电已经与来自美国、欧洲、日本的多家光电产品制造商建立了紧密的合作关系。其代理品牌均处于相关领域的发展前沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究与国防等。
昊量光电坚持“专业源自专注，专注成就未来”的经营理念。近年来，我们专注于前沿的细分市场，为量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、先进激光制造等领域的客户提供系统解决方案。
作为一家以技术沟通与技术服务见长的高科技企业，我们所有的销售与技术服务团队成员都具有理工科方面的专业背景，并在公司接受相关领域的专业培训，在售前技术沟通、售后产品安装培训、产品问题解决、软硬件增值服务等方面为客户提供更加专业化的服务！我们专业高效的商务与物流部门凭借多年积累的贸易经验与规范化的制度流程，保障每一笔订货准时安全到达目的地，免除客户的后顾之忧！
秉承诚信、高效、创新、共赢的核心价值观，昊量光电坚持以诚信为基石，凭借高效的运营机制和勇于创新的探索精神为我们的客户与与合作伙伴不断创造价值，实现各方共赢！
立足于光电产业，昊量光电始终坚持价值创造与创新，赢得客户与合作伙伴的认可，不断拓展业务领域的新边疆，立志打造的代理服务品牌！
详细信息
DMD无掩膜光刻机无需制造掩膜，采用DMD数字掩膜,可在抗蚀剂内曝光所希望的任意图案。无掩膜光刻机可以读取任何CAD数据，除此之外DMD式无掩膜光刻机还可以读取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式无掩膜光刻机使用365nmLED光源，降低价格的同时实现了稳定的曝光。采用10倍物镜，一次曝光面积可达1mm´0.6mm，曝光时间仅需1s。结合电动移动平台，可实现曝光拼接，分辨率可达到3mm。可通过公司编写的软件完成详细设定，使操作简洁方便。
DMD无掩膜光刻机与传统的光刻机不同，AU-PALET光刻机采用DMD数字掩膜光刻技术，无需制造掩膜。大大降低了时间和成本。无掩膜光刻机可以读取任何创建的CAD文件，直接进行光刻。除了CAD文件，还可以读取丰富的其它格式的数据，例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。
AU-PALET DMD式无掩膜光刻机采用短波段的LED灯为光源，相对于其它的光源，拥有更高的稳定性和更长的寿命，降低价格的同时实现了稳定的曝光。AU-PALET 无掩膜光刻机为面曝光，采用10倍的物镜，一次曝光面积可达到1mm´0.6mm，结合电动平移台可实现曝光拼接，可达到更大的曝光面积。可通过公司编写的软件完成简单操作和详细设定，操作简洁方便。
设备有限公司推出的DMD式无掩膜光刻机有两种。
① AU-PALET是一款快速光刻的无掩膜光刻机。本装置采用375nm的LED光源，实现了稳定的曝光，并且拥有更高的稳定性和更长的寿命。采用10´的物镜曝光面积达到1mm´0.6mm，光刻分辨率达到5mm，并在10s 内完成曝光。
②
②AU-PALET_new 是AU-PALET的升级版本，在光源上采用波长更短的365nm的LED灯作为光源，采用10´的物镜曝光面积达到1mm´0.6mm，光刻分辨率达到3mm，并在1s 内完成曝光。
u 主要特点
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高速度（1s）
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广范围（1´0.6mm）
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365nm LED光源
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高分辨率 （3mm）
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成本低
u 主要应用
磁性薄膜等的任意形状的图案的形成
传感器，半导体器件的制作
MEMS器件的试制、
光电子，LED的试制
微流体器件的试制
掩膜版制作
细胞分离通道等的制作
光波导路的制作
主要参数
| 型号 参数 | AU-PALET | AU-PALET_new |
| 光源 | 375nm LED | 365nm LED |
| 光刻分辨率（使用10倍物镜） | 5 mm | 3 mm |
| 曝光面积（使用10倍物镜） | 1mm´0.6mm | 1mm´0.6mm |
| 平台 | 手动XYZq平台 | 手动XYZq平台 |
| 构成 | 装置本身，电脑， 软件 | 装置本身，电脑， 软件 |
| 外形尺寸 | 420(W) x 300(D) x 600(H) | 300(W) x 450(D) x430(H) |
| 选项 | 2x镜头，电动平台等 | 2x镜头，电动平台等 |
